[发明专利]蒸镀源、蒸镀装置

说明书

本发明提供一种蒸镀源、蒸镀装置，属于显示技术领域，其可解决现有的真空成膜装置的成膜均一性较差的问题。本发明的蒸镀源包括蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种蒸镀源、蒸镀装置。

背景技术

目前，真空成膜设备是实现有机电致发光产品的必需设备，该设备的成膜均一性是保证产品性能稳定性的重要考量点。

现有技术中，常通过增大真空成膜设备中的坩埚与基板之间的间距，或者采用线蒸镀源的方式对基板进行蒸镀成膜，以此来保证材料成膜均一性。然而，发明人发现：坩埚与基板之间的间距越大，蒸镀材料的利用率就越低；而且，线蒸镀源占用空间较大，其并不适用于对小尺寸的基板进行蒸镀成膜。也就是说，以上两种改进方式虽解决了材料成膜均一性的问题，但其均会带来一些负面影响，故上述两种改进方式的实用性并不高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种提高蒸镀成膜均一性的蒸镀源、蒸镀装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸镀源，包括：蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。

优选的是，多个所述开口围绕所述中心区域均匀排布。

优选的是，还包括：蒸镀容纳室、连接轴；

所述蒸镀容纳室为中空结构，所述治具、蒸镀本体、连接轴均位于所述中空结构内，且所述连接轴的第一端与所述治具连接，其的第二端与所述蒸镀容纳室的内壁固定连接，用于将所述治具固定在所述蒸镀本体与所述基板之间。

优选的是，所述连接轴的形状与所述开口的形状一致。

优选的是，还包括：转动组件、驱动组件；

所述转动组件的一端与所述连接轴的第一端连接，另一端与所述治具的中心区域连接；

所述驱动组件与所述转动组件连接，用于驱动转动组件转动，以带动所述治具发生转动。

优选的是，所述转动组件的转速为50～1000r/s。

优选的是，还包括：吸热组件，其设置在所述连接轴靠近所述基板的一侧上，用于吸收蒸镀本体所散发的热量。

优选的是，所述治具的材料为金属材料。

优选的是，所述金属材料包括钛合金。

优选的是，所述开口的形状包括扇形。

优选的是，所述蒸镀源为点蒸镀源。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸镀装置，包括上述的任意一种蒸镀源。

附图说明

图1为本发明的实施例1的蒸镀源的示意图；

图2为本发明的实施例1的治具的示意图；

其中附图标记为：1、坩埚；2、基板；3、治具；31、开口；4、连接轴；5、转动组件；6、蒸镀容纳室。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。