[发明专利]一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法有效
申请号: | 201811183440.X | 申请日: | 2018-10-11 |
公开(公告)号: | CN109183094B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 王志华 | 申请(专利权)人: | 西安科技大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C23C18/36;C23C22/08;C23C28/00 |
代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 董柏雷 |
地址: | 710054 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镁合金 表面 发射 涂层 制备 方法 | ||
1.一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一、对镁合金进行预处理;
步骤二、将步骤一中预处理后的镁合金置于化学转化液中进行化学转化处理;所述化学转化液由植酸、柠檬酸、磷酸二氢钠、十二烷基磺酸钠和去离子水混合均匀而成,所述化学转化液中植酸的浓度为5mL/L~15mL/L,柠檬酸的浓度为20g/L~30g/L,磷酸二氢钠的浓度为12g/L~22g/L,十二烷基磺酸钠的浓度为0.2g/L~0.5g/L;
步骤三、将步骤二中经化学转化处理后的镁合金置于化学镀处理液中进行化学镀处理;所述化学镀处理液中硫酸镍的浓度为15g/L~20g/L,柠檬酸钠的浓度为12g/L~15g/L,氟化氢铵的浓度为6g/L~12g/L,次亚磷酸钠的浓度为20g/L~30g/L,硫脲的浓度为0.1g/L~0.2g/L;
步骤四、向步骤三中经化学镀处理后的镁合金置于电镀处理液中进行电镀处理;所述电镀处理液中硫酸镍的浓度为70g/L~90g/L,硫酸锌的浓度为35g/L~50g/L,氧化铈的浓度为10mg/L~15mg/L,氯化铵的浓度40g/L~48g/L,硼酸的浓度为20g/L~30g/L,添加剂的浓度为0.06g/L~0.09g/L,十二烷基磺酸钠的浓度为0.08g/L~0.12g/L;
所述步骤二中对预处理后的镁合金进行化学转化处理之前,预先采用质量百分比浓度为10%的三乙醇胺将化学转化液的pH值调节为4.5~6.0;
步骤三中对化学转化处理后的基体进行化学镀处理之前,预先对经化学转化处理后的镁合金进行封闭处理,封闭处理液由硅酸钠、氢氧化钠和去离子水构成,其中硅酸钠的浓度为20g/L,氢氧化钠的浓度为25g/L。
2.根据权利要求1所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤一中所述预处理的具体过程为:
步骤101、对镁合金进行打磨处理;
步骤102、将步骤101中打磨处理后的镁合金置于盛装有除油液的超声波清洗器中进行超声辅助除油处理;
步骤103、将步骤102中经超声辅助除油处理后的镁合金置于盛装有除锈液的超声波清洗器中进行超声辅助除锈处理。
3.根据权利要求2所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤101中所述打磨处理的具体工艺为:依次采用400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#砂纸对基体进行打磨。
4.根据权利要求2所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤102中所述除油液由氢氧化钠、磷酸三钠、十二烷基磺酸钠和去离子水混合配制而成,所述除油液中氢氧化钠的浓度为35g/L~45g/L,磷酸三钠的浓度为8g/L~15g/L,十二烷基磺酸钠的浓度为0.15g/L~0.45g/L。
5.根据权利要求2所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤103中所述除锈液由磷酸和去离子水混合均匀而成,所述除锈液中磷酸的浓度为400mL/L~600mL/L。
6.根据权利要求1所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤三中对化学转化处理后的镁合金进行化学镀处理之前,预先采用质量百分比浓度为5%的硫酸将化学镀处理液的pH值调节为5~6。
7.根据权利要求1所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤四中对化学镀处理后的镁合金进行电镀处理之前,预先采用质量百分比浓度为5%的硫酸将电镀处理液的pH值调节为4.5~4.8;
所述电镀处理中所述电镀处理液的温度为35℃,处理时间为20min~30min,电流密度为2A/dm2~4A/dm2。
8.根据权利要求1所述的一种镁合金表面高发射率涂层的制备方法,其特征在于,步骤三中所述化学镀处理中所述化学镀处理液的温度为85℃,处理时间为60min~90min。
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