[发明专利]筛选m6A去修饰酶抑制剂的核苷酸底物、试剂盒和方法

权利要求书

1.一种双链多核苷酸底物，其含有至少一个限制性内切酶识别区，所述限制性内切酶识别区中含有至少一个修饰的碱基，并且所述修饰碱基的存在阻止与限制性内切酶识别区相对应的限制性内切酶对核酸底物的剪切；所述双链多核苷酸底物两条链分别标记有荧光发射基团和荧光淬灭基团,且荧光发射基团和荧光淬灭基团之间存在荧光共振能量转移；

所述修饰的碱基为N6-甲基腺嘌呤；所述限制性内切酶识别区为GGATCC，其中的A为m6A。

2.如权利要求1所述双链多核苷酸底物，其特征在于所述限制性内切酶为DpnII。

3.如权利要求2所述双链多核苷酸底物，其特征在于荧光发射基团和荧光淬灭基团分别位于双链多核苷酸底物的两端，所述双链多核苷酸底物长度至少17bp。

4.一种核酸去修饰酶活性检测方法，包括：

(1)将核酸去修饰酶活性待测物与权利要求1-3任一所述双链多核苷酸底物接触；

(2)利用与所述双链多核苷酸底物上限制性内切酶识别区相对应的限制性内切酶进行切割；

(3)检测荧光值的步骤。

5.如权利要求4所述核酸去修饰酶活性检测方法，其特征在于：所述荧光值的高低与核酸去修饰酶活性正相关。

6.一种核酸去修饰酶抑制剂活性检测方法，包括：

(1)将核酸去修饰酶抑制剂活性待测物与核酸去修饰酶、权利要求1-3任一所述双链多核苷酸底物反应；

(2)利用与所述双链多核苷酸底物上限制性内切酶识别区相对应的限制性内切酶进行切割；

(3)检测荧光值的步骤。

7.如权利要求6所述核酸去修饰酶活性检测方法，其特征在于：所述荧光值的高低与核酸去修饰酶抑制剂活性负相关。

8.如权利要求4-7任一所述检测方法，其特征在于步骤(2)之后调整反应体系的温度使其介于双链多核苷酸底物的熔融温度与切割产物的熔融温度之间。

9.如权利要求4-7任一所述检测方法，其特征在于步骤(3)使用荧光酶标仪检测荧光值。