[发明专利]显示面板的制备方法及显示面板

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

S10，提供一基板，在所述基板上制备薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括有源层；

S20，在所述薄膜晶体管层上制备光吸收层，其中，所述光吸收层覆盖所述有源层；

S30，在所述光吸收层上制备顶发光OLED器件；

在制备所述有源层之后，S20还包括：

在所述有源层表面制备栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层表面制备栅极金属层；

在所述栅极金属层上制备层间绝缘层，所述层间绝缘层覆盖所述栅极金属层；

在所述层间绝缘层上制备源漏金属层；

在所述S30之前还包括：

在所述光吸收层表面制备平坦层；

在所述平坦层上制备像素定义层；

其中，所述顶发光OLED器件的阴极制作步骤包括在第一增透层上制备阴极、及在所述阴极上制备第二增透层，所述光吸收层采用黑色光阻或红色光阻材料制备，所述像素定义层、所述平坦层以及所述光吸收层包括连通的过孔，用以连接所述顶发光OLED器件的阳极与所述源漏金属层，所述光吸收层还覆盖所述源漏金属层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光吸收层的厚度为1～3微米。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S10包括：

S101，在所述基板上制备缓冲层；

S102，在所述缓冲层上制备所述有源层。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述S10还包括：

S107，在所述源漏金属层上制备钝化层，所述钝化层覆盖所述源漏金属层。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述S20中，在所述钝化层表面制备所述光吸收层。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述S30包括：

S301，在所述像素定义层上制备阳极；

S302，在所述阳极上制备有机发光层；

S303，在所述有机发光层上制备半透明阴极。

7.一种显示面板，其特征在于，包括：

薄膜晶体管层，设置于一基板上，所述薄膜晶体管层包括有源层以及源漏金属层；

光吸收层，设置于所述薄膜晶体管层上；

设置于所述光吸收层上的平坦层以及像素定义层；

顶发光OLED器件，设置于所述光吸收层上；

其中，所述光吸收层覆盖所述有源层以及所述源漏金属 层，所述光吸收层采用红色光阻或黑色光阻材料制备，所述顶发光OLED器件的阴极层包括第一增透层、位于所述第一增透层上的阴极、及位于所述阴极上的第二增透层，所述像素定义层、所述平坦层以及所述光吸收层包括连通的过孔，用以连接所述顶发光OLED器件的阳极与所述源漏金属层。