[发明专利]一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811211627.6 申请日: 2018-10-18
公开(公告)号: CN109089406A 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 姚艳芳 申请(专利权)人: 吴江友鑫新材料科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电磁屏蔽膜 透明金属 内陷式 网格 基材 高透光 树脂层 屏蔽 制备 导电纳米材料 金属网格结构 生产制造工艺 环境友好型 凹版印刷 导磁材料 高耐候性 金属结构 金属线条 模拟电路 屏蔽效果 视觉效果 透明结构 网格设计 微纳加工 透过型 导磁 线宽 吸收 制作 嵌入
【说明书】:

发明公开了一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜,包括基材,基材的上侧设有高透光树脂层,在高透光树脂层内部嵌入有多个纳米导磁材料颗粒,还公开了一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜的制备方法,本发明一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜,采用微纳加工的方式制作透明结构基材,并使用凹版印刷的原理在结构内部形成金属网格结构,使其具有高透过型,金属结构具有高耐候性;采用环境友好型生产制造工艺,且制作的金属线条线宽最细可达到1um,具有很好的视觉效果;采用导磁与导电纳米材料相结合的组成方式使可有效提高屏蔽效果,拓宽屏蔽范围;采用多种网格设计与模拟电路吸收阵列相结合,使其具有高效的屏蔽及吸收效果。

技术领域

本发明涉及电磁屏蔽膜技术领域,具体是一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜及其制备方法。

背景技术

常规的电磁屏蔽视窗,多采用铜刻蚀、感光银等方式将金属网格集成于透明基底材料表面,采用内夹金属丝网的屏蔽玻璃,产品的透光度低、屏蔽波段窄,难以满足从低频10KHz到高频18GHz宽屏段电磁屏蔽性能的要求,屏蔽性能不完善,综合性能不佳。

发明内容

本发明的目的在于提供一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜,包括基材,所述基材的上侧设有高透光树脂层,在高透光树脂层内部嵌入有多个纳米导磁材料颗粒,在高透光树脂层上均匀排布有多个凹槽,每个凹槽内部由下至上均匀分布有纳米金属导电材料层、纳米金属导磁材料层和黑化纳米材料层。

进一步的,所述基材1的材质为PET、PC、PEN、PP和PS中的一种。

进一步的,所述高透光树脂层中的高透光树脂的材质为PETG和TPU中的一种。

进一步的,所述纳米金属导电材料层为纳米铜导电油墨层。

进一步的,所述纳米金属导磁材料层为纳米导磁油墨层。

进一步的,所述黑化纳米材料层为黑化油墨层。

一种内陷式透明金属网格电磁屏蔽膜的制备方法,具体包括以下步骤:

S1、根据需要选择合适的材料作为基材;

S2、在基材1上粘结高透光树脂形成高透光树脂层;

S3、根据需要制作模具;

S4、利用步骤S3中制作好的模具在高透光树脂层上进行纹理转印形成凹槽结构;

S5、将纳米铜导电油墨、纳米导磁油墨、黑化油墨按照设计依次填入步骤S4中的凹槽结构内,形成导电线路网格;

S6、根据需要在步骤S5中已经烧结成型的导线线路表面通过电沉积或化学沉积的方式在网格表面沉积纳米导磁材料,在高透光树脂层内部形成纳米导磁待料颗粒。

进一步的,所述步骤S3中,采用高精度光学曝光工艺将光阻曝光显影实现微结构发生。

进一步的,所述步骤S4中,具体采用曝光UV树脂的方式进行纹理转印。

进一步的,所述步骤S5中,具体采用凹版印刷的方式将纳米铜导电油墨、纳米导磁油墨、黑化油墨依次填入凹槽结构内,填充完毕后进行烧结成型。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

1、采用微纳加工的方式制作透明结构基材,并使用凹版印刷的原理在结构内部形成金属网格结构,使其具有高透过型,金属结构具有高耐候性。

2、采用环境友好型生产制造工艺,且制作的金属线条线宽最细可达到1um,具有很好的视觉效果。

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