[发明专利]图像绘制方法和装置、计算设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201811223702.0 申请日: 2018-10-19
公开(公告)号: CN109325992B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 李侃 申请(专利权)人: 珠海金山数字网络科技有限公司;成都西山居世游科技有限公司
主分类号: G06T15/08 分类号: G06T15/08;G06T15/20
代理公司: 北京智信禾专利代理有限公司 11637 代理人: 吴肖肖
地址: 519000 广东省珠海市高新区唐家湾镇前岛环路325号102室*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 绘制 方法 装置 计算 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像绘制方法,包括:

获取待绘制图像中像素点的真实深度,每个所述像素点的位置信息通过三维坐标来表示,每个所述像素点的深度值通过三维坐标中的Z轴的值来表示;

将所述真实深度和预设阈值进行比较;

对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第一投影,得到第一Z值深度,所述第一Z值深度作为所述像素点的Z值深度;

对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影,得到第二Z值深度,所述第二Z值深度作为所述像素点的Z值深度,其中,对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第一投影与对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影的方法不同,所述真实深度大于预设阈值的像素点在所述第二投影的非线性度小于在所述第一投影的非线性度;

根据所述像素点的Z值深度绘制所述像素点。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第一投影,包括:

对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用透视投影法沿Z轴方向进行第一投影。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影,包括:

对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用直线投影法沿Z轴方向进行第二投影。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影还包括:

对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用反向映射法。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述反向映射法包括:

根据所述第二Z值深度,将所述第二Z值作取反操作实现反向映射。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述像素点的Z值深度绘制所述像素点,包括:

判断待绘制像素点所在的位置上是否有已绘制图像的像素点;

若没有,则直接绘制所述待绘制像素点;

若有,则将待绘制像素点的Z值深度与已绘制图像的像素点的Z值深度比较,若待绘制像素点的Z值深度比已绘制图像的像素点的Z值深度大,则不进行绘制;若待绘制像素点的Z值深度比已绘制图像的像素点的Z值深度小,则进行绘制。

7.一种图像绘制装置,包括:

像素点获取模块,被配置为获取待绘制图像中像素点的真实深度,每个所述像素点的位置信息通过三维坐标来表示,每个所述像素点的深度值通过三维坐标中的Z轴的值来表示;

深度比较模块,被配置为将所述真实深度和预设阈值进行比较;

第一投影模块,被配置为对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第一投影,得到第一Z值深度,所述第一Z值深度作为所述像素点的Z值深度;

第二投影模块,被配置为对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影,得到第二Z值深度,所述第二Z值深度作为所述像素点的Z值深度,其中,对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第一投影与对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向进行第二投影的方法不同,所述真实深度大于预设阈值的像素点在所述第二投影的非线性度小于在所述第一投影的非线性度;

图像绘制模块,被配置为根据所述像素点的Z值深度绘制所述像素点。

8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述第一投影模块对所述真实深度小于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用透视投影法沿Z轴方向进行第一投影。

9.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述第二投影模块对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用直线投影法沿Z轴方向进行第二投影。

10.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述第二投影模块对所述真实深度大于预设阈值的像素点沿Z轴方向采用反向映射法沿Z轴方向进行第二投影。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海金山数字网络科技有限公司;成都西山居世游科技有限公司,未经珠海金山数字网络科技有限公司;成都西山居世游科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811223702.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top