[发明专利]晶圆承盘标示方法及其结构在审
申请号: | 201811234126.X | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN111092042A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 王智 | 申请(专利权)人: | 王智 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/687;B23K26/362 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 张晶;程凤儒 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆承盘 标示 方法 及其 结构 | ||
一种晶圆承盘标示的成型方法,包含有下列步骤:一成型步骤为以塑料成型为一承盘本体,该承盘本体一侧为一承载面,另一侧为一底面,一周面位在该承载面与该底面间,且该周面连结该承载面及该底面。一被覆步骤为在该承盘本体的该周面或该底面设置一被覆层,该被覆层的颜色相异于该承盘本体的颜色。一标示构造为复数镂空的组合,各该镂空形成在该被覆层,且该承盘本体的表面颜色可透出各该镂空,致使各该镂空所组成的该标示构造为可视及/或可扫描。
技术领域
本发明是关于一种标示的成型方法,尤其是晶圆承盘标示的成型方法。
背景技术
随着高科技制造产业的发展,晶圆在运送的过程中大多依赖自动化输送系统来运送。而在晶圆的制造流程或搬运过程中,通常是将晶圆容置于一承盘的容槽内,通过承盘来防止晶圆受到外力撞击而受到损伤。
而晶圆在大量制造的情况下,需要数以百计甚至更多的承盘来承载晶圆,且为了加以分辨通过不同加工制程的晶圆,使用者在数量如此众多的承盘中,需在承载晶圆的承盘上,逐一标注有关制程的相关详细讯息。
已知的标示方法为在晶圆承盘的其中一侧面贴上用于识别的标签,然而,该晶盘在封装过程中是同时经过封装制程中的烘烤、清洗工序,并持续地被重复使用,且晶盘在每次的封装制程中必须承受烘烤的高温,因此,在经过多次使用的晶圆承盘,用于识别的标签会发生与晶圆承盘分离的问题,如此便造成使用者极大的困扰。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种晶圆承盘结构及晶圆承盘标示的成型方法,其具有帮助使用者达到识别晶圆承盘的目的。
为达上述目的及功效,本发明提供一种晶圆承盘结构,其包含:
一承盘本体,其具有一承载面及一底面,该承载面相对该底面,一承载部形成在该承载面且延伸朝向该底面,一周面位在该承载面及该底面间,且该周面连结该承载面及该底面;
一被覆层,其设置在该承盘本体的该周面或该底面;
一标示构造,为复数镂空的组合,各该镂空形成在该被覆层,且该承盘本体的表面颜色可透出各该镂空,致使各该镂空所组成的该标示构造为可视及/或可扫描。
在一实施例中,各该镂空所组成的该标示构造为选自一维条码或二维条码。
在一实施例中,各该镂空所组成的该标示构造为选自文字或数字。
本发明所揭示的晶圆承盘标示的成型方法,包含有下列步骤:
一成型步骤,为以塑料成型为一承盘本体,该承盘本体一侧为一承载面,另一侧为一底面,一周面位在该承载面与该底面间,且该周面连结该承载面及该底面。
一被覆步骤,为在该承盘本体的该周面或该底面设置一被覆层,该被覆层的颜色相异于该承盘本体的颜色。
一标记成型步骤,为移除部分的该被覆层,且每一被移除的位置形成一镂空,藉此该被覆层具有复数该镂空,且该承载盘本体的表面颜色可透出各该镂空以形成一标示构造。
在一实施例中,其中该被覆步骤中,以镀膜或溅镀的方式设置该被覆层。
在一实施例中,其中该标记成型步骤中,通过镭射雕刻方式移除该被覆层的部分位置以形成一镂空。
本发明的有益效果在于:
本发明提供一种晶圆承盘结构及晶圆承盘标示的成型方法,该晶圆承盘结构及晶圆承盘标示的成型方法具有帮助使用者达到识别晶圆承盘的目的。
附图说明
图1为本发明较佳实施例的立体图。
图2为本发明被覆层的示意图。
图3为本发明镂空区域的示意图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造