[发明专利]一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法

权利要求书

1.一种蒸镀系统，其特征在于，所述系统包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块；其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。

2.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述第一掩膜板为掩膜板基体；所述第二掩膜板包括掩膜板基体及依次包覆在基体外侧的有机层和金属层，其中，有机层厚度为10μm-30μm，有机层为蒸镀酞菁铜或者芳香胺中的一种或多种，金属层材料为Al或Mg。

3.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述加热室包括腔室、掩膜板加热板、真空泵、阀门、传送装置、清洁刷、回收盘、气氛感应器和真空探测器。

4.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述冷却室包括：腔室、真空阀门、传送装置、风枪、水冷管、回收盘和温度感应器。

5.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述清洗单元包括清洗室和浸润室。

6.一种蒸镀及掩膜板清洗方法，其特征在于，所述方法包括：

一、第一对位

玻璃基板与储藏室中的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第一掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；

二、有机蒸镀

对经过第一对位的玻璃基板进行有机层蒸镀；

三、第一分离循环

在有机蒸镀结束后，玻璃基板与第一掩膜板在第一分离平台分离，第一掩膜板再回到第一对位室和新的玻璃基板贴合，玻璃基板则进入第二对位室；

四、第二对位

由第一分离平台分离出的玻璃基板与第二对位室中的第二掩膜板完成第二对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第二掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；

五、金属蒸镀

对经过第二对位的玻璃基板进行金属层蒸镀；

六、第二分离循环

在金属蒸镀结束后，玻璃基板与第二掩膜板在第二分离平台分离，第二掩膜板再回到第二对位室和新的玻璃基板贴合；

七、第一清洁循环

当第一掩膜板的膜层厚度达到一定时，将其从第一分离平台传送至转换平台，进入清洁单元，待清洗工艺全部结束后，掩膜板在卸载台完成卸载后返回至储藏室；

八、第二清洁循环

当第二掩膜板膜层厚度达到一定时，将其从第二分离平台依次传送至加热室和冷却室对金属层进行清理，清理完成后，传送至转换平台并进入清洁单元，待清洗工艺全部结束后，掩膜板在卸载台完成卸载后返回至储藏室。

7.根据权利要求6所述的蒸镀及掩膜板清洗方法，其特征在于，所述加热室的真空度为10^-5PA，通过上部加热板和底部滚轴型加热板对第二掩膜板的基体和第二掩膜板底部进行局部加热，加热方式采用电阻加热或者电磁加热，上部加热板和底部滚轴型加热板的形状取决于第二掩膜板需求，温度为300℃；加热室腔室加热时间和滚轴加热板传送速度根据掩膜板上金属层厚度和剥落效果设定；加热室内设置气氛感应器和真空探测器。

8.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其特征在于，所述第二掩膜板传送至冷却室时，打开真空阀门，使腔室达到正常大气压水平，然后再对第二掩膜板表面处理，清理残余金属层，并冷却第二掩膜板，冷却时采用上下风枪和水冷管冷却，上下风枪温度应由高逐渐到低，可防止掩膜板发生老化，水冷管采用室温水，降低腔室温度；冷却室设置温度感应器，可监控腔室温度。