[发明专利]一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法

说明书

本发明涉及一种蒸镀系统及蒸镀及掩膜板清洗方法，所述蒸镀系统包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块，其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。与现有技术相比，根据本发明的蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法，可以显著提高蒸镀工艺效率和清洗效果，并在保护环境的同时显著降低清洗成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更加具体地，涉及蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法。

背景技术

OLED，即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，具有全固态结构、高亮度、全视角、响应速度快、工作温度范围宽、可实现柔性显示等优点，是新一代显示技术的重要组成，极具发展前景。

目前主要采用蒸镀法制造OLED，即将镀膜材料加热后配合掩膜板沉积在玻璃基板上的预定区域，以此实现有机层和金属层的镀膜。而用于大尺寸蒸镀的掩膜板都是使用开口式掩膜板，一种是用于蒸镀有机层的有机掩膜板，另一种是用于蒸镀阴极的金属掩膜板。在蒸镀过程中，掩膜板的掩膜框和掩膜条上会堆积大量的有机材料和金属材料，为防止材料增厚而产生的掩膜精度偏差和剥落污染蒸镀室，掩膜板需要定期清洗。

现有蒸镀工艺中，蒸镀后的有机掩膜板和金属掩膜板需要用不同的药剂和设备进行清洗，药剂使用量大，费用高昂，生产成本高，生产效率低。已有专利(专利公开号CN104614933A)将镀完有机物和金属层的金属掩膜板直接放入在有机掩膜板清洗机，通过清洗掩膜条和金属层间的有机物，达到金属层直接剥落的目的来清洗掩膜板的金属层。

在实际生产中此方法无法解决两个问题：一是金属层蒸镀后完全包覆有机层，清洗剂不能溶解有机层或溶解效率低；另一方面，少量剥落的金属层长期残留在药液槽里，清理困难，不利于长期生产需要。

发明内容

为解决现有技术的不足，本发明提供一种蒸镀系统及相应的蒸镀及掩膜板清洗方法。

根据本发明的一方面，一种蒸镀系统，包括第一蒸镀模块、第二蒸镀模块和清洗模块；其中，第一蒸镀模块包括第一掩膜板、第一对位室、有机蒸镀室和第一分离平台；第二蒸镀模块包括第二掩膜板、第二对位室、金属蒸镀室和第二分离平台；清洗模块包括加热室、冷却室、转换平台、清洗单元、卸载台和掩膜板储藏室；清洗模块中转换平台与第一分离平台连接、真空加热室与第二分离平台连接、掩膜板储藏室与第一对位室连接。

根据本发明的示例性实施例，所述第一掩膜板为掩膜板基体；所述第二掩膜板包括掩膜板基体及依次包覆在基体外侧的有机层和金属层，其中，有机层厚度为10μm-30μm，可以为蒸镀有机材料如酞菁铜或芳香胺等的一种或多种，金属层材料可以为Al或Mg。

根据本发明的示例性实施例，所述加热室包括腔室、掩膜板加热板(或加热框)、真空泵、阀门、传送装置、清洁刷、回收盘、气氛感应器和真空探测器。

根据本发明的示例性实施例，所述冷却室包括腔室、真空阀门、传送装置、风枪、水冷管、回收盘和温度感应器。

根据本发明的示例性实施例，所述清洗单元包括清洗室和浸润室。

根据本发明的另一方面，一种蒸镀及掩膜板清洗方法，所述方法包括：

一、第一对位

玻璃基板与储藏室中的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位，确保玻璃基板需要蒸镀的区域与第一掩膜板开口区域重合，对位误差不大于50μm；

二、有机蒸镀

玻璃基板从入口处与储藏室的第一掩膜板在第一对位室完成第一对位后，传送至有机蒸镀室进行有机层蒸镀；