[发明专利]衬底保持器和光刻装置

说明书

一种用于光刻装置的衬底支架，包括具有提供在其表面上的薄膜叠层的主体。薄膜叠层形成电子或电气组件，如电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件，并且具有顶部隔离层。用于支承衬底(W)的多个粒结形成在薄膜叠层上或薄膜叠层的孔径中。

本申请是国际申请日为2013年01月17日、2014年8月01日进入中国国家阶段的、申请号为20138007715.3、发明名称为“衬底保持器和光刻装置”的专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求2012年2月3日提出的美国临时申请61/594,857、2012年4月9日提出的美国临时申请61/621,648和2012年4月9日提出的美国临时申请61/621,660的权益，其公开内容在此通过引用以其整体并入。

技术领域

本发明涉及衬底支架、光刻装置、器件制造方法和制造衬底支架的方法。

背景技术

光刻装置是将期望图案应用于衬底上的机器，通常应用于衬底的目标部分上。光刻装置可以用于例如制造集成电路(IC)。在该例子中，可替换地称为掩模或刻线的图案化器件可以用于生成在IC的单独层上形成的电路图案。该图案可以传输至衬底(如，硅片)上的目标部分上(如，包括一个或一些裸片的一部分)。图案传输通常是通过成像到衬底上提供的辐射敏感性材料(抗蚀剂)。一般地，单个衬底将包含依次形成图案的邻近目标部分的网络。已知光刻装置包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中每个目标部分通过将整个图案同时暴露到目标部分而被照射，而在扫描器中每个目标部分通过沿着给定方向(“扫描方向”)扫描经过辐射光束的图案而被照射，同时扫描与该方向平行或反平行的衬底。还可能通过将图案压印至衬底上而将来自图案化器件的图案传输至衬底。

已经提出将衬底浸入具有相对较高折射率的液体例如水中的光刻投影装置，从而填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在一个实施例中，液体是蒸馏水，尽管可以使用另一液体。将关于液体描述本发明的一个实施例。然而，另一流体可以是合适的，特别是润湿流体(wetting fluid)、不可压缩流体和/或具有比空气更高折射率的流体，该另一流体期望具有比水更高的折射率。排除气体的流体是特别期望的。这样做的要点是使得能够成像更小特征，因为在液体中曝光辐射将具有更短波长。(液体的效果还可以视为增加系统的有效数值孔径(NA)和也增加焦深)。已经提出其他浸入液体，包括具有悬浮在其中的固体粒子(石英)的水，或具有纳米粒子悬浮液(如，最大尺寸高达10nm的粒子)的液体。悬浮粒子可以或不可以具有与悬浮在其中的流体相似或相同的折射率。可以适用的其他液体包括碳氢化合物，如芳烃、氟代烃，和/或水溶液。

发明内容

在传统的光刻装置中，要曝光的衬底可以由衬底支架支承，衬底支架进而由衬底台支承。衬底支架通常是与衬底尺寸和形状相对应的平坦刚性圆盘(尽管也可以具有不同尺寸或形状)。具有从至少一侧突出的投影阵列，其被称为粒结(burl)或凸起(pimple)。在一个实施例中，衬底支架具有在两个相对面上的突出阵列。在该情况中，当衬底支架放置在衬底台上时，衬底支架的主体被保持在衬底台上方小距离处，同时衬底支架的一个侧面上的粒结末端位于衬底台的表面。相似地，当衬底位于衬底支架的相对面上的粒结顶部时，衬底与衬底支架的主体间隔开。一个目的是有助于防止可能存在衬底台或衬底支架的粒子(即，诸如尘粒的污染粒子)不会扭曲衬底支架或衬底。由于粒结的总表面积只有衬底或衬底支架的总面积的一小部分，所以任何粒子将很可能位于粒结之间，并且粒子的存在将没有影响。