[发明专利]研磨装置

权利要求书

1.一种研磨装置，其特征在于，具有：

基板保持部，所述基板保持部保持基板，并使该基板旋转；

研磨头，所述研磨头使在表面具有磨粒的研磨带与所述基板的背面接触而对所述基板的背面进行研磨；

带输送装置，所述带输送装置将所述研磨带沿所述研磨带的长度方向输送；以及

平移旋转运动机构，所述平移旋转运动机构使所述研磨头进行平移旋转运动，

所述基板保持部具有多个辊，

所述多个辊构成为能够以各辊的轴心为中心旋转，

所述多个辊具有能够与所述基板的周缘部接触的基板保持面，

所述研磨头相比于所述基板保持面配置在下方，

所述研磨头具有将所述研磨带向所述基板的背面按压的多个研磨托板、和将所述多个研磨托板向上方抬起的多个加压机构，

所述多个研磨托板从所述基板的背面的中心部排列到外周部，

所述多个加压机构构成为能够独立地调节从所述多个研磨托板向所述基板的背面施加的按压力。

2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述多个研磨托板相对于所述研磨带的行进方向倾斜地延伸。

3.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述研磨头具有将所述多个研磨托板支承成能够倾动的球面轴承。

4.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述研磨头具有覆盖所述多个研磨托板的上缘的软质件。

5.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述多个研磨托板沿所述研磨带的长度方向排列。

6.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述多个研磨托板的整体比所述基板的半径长。

7.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述多个研磨托板配置在离所述基板保持部的轴心不同距离的位置。

8.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述研磨装置还具有使所述研磨头平行移动的研磨头移动机构。

9.一种研磨装置，其特征在于，具有：

基板保持部，所述基板保持部一边使基板旋转，一边能够使该基板进行平移旋转运动；以及

研磨头，所述研磨头通过多个研磨托板使研磨带与所述基板的背面接触而对所述基板的背面进行研磨，

所述基板保持部具有多个辊，

所述多个辊构成为能够旋转，

所述多个辊具有能够与所述基板的周缘部接触的基板保持面，

所述研磨头具有将所述多个研磨托板向上方抬起的多个加压机构，

所述研磨头相比于所述基板保持面配置在下方，

所述多个研磨托板从所述基板的背面的中心部排列到外周部，

所述多个加压机构构成为能够独立地调节从所述多个研磨托板向所述基板的背面施加的按压力。

10.如权利要求9所述的研磨装置，其特征在于，

所述基板保持部还具有辊旋转机构，在基板的研磨中，所述辊旋转机构使所述多个辊以各辊的轴心为中心旋转，

所述多个辊绕所述基板保持部的轴心排列。

11.如权利要求9所述的研磨装置，其特征在于，

所述研磨装置还具有将所述研磨带沿所述研磨带的长度方向输送的带输送装置。

12.如权利要求9所述的研磨装置，其特征在于，

从所述基板保持部的轴心到所述多个研磨托板的最外端的距离比从所述基板保持部的轴心到所述基板保持面的距离长。

13.如权利要求9所述的研磨装置，其特征在于，

所述多个研磨托板相对于所述研磨带的行进方向倾斜地延伸。