[发明专利]基板制造装置及基板制造方法

权利要求书

1.一种基板制造装置，其中，具有：

第1涂布站，对底层基板的单面涂布液状薄膜材料并对涂布于所述底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料的表层部固化；

反转站，搬入在第1涂布站被涂布有薄膜材料的底层基板，对涂布于底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料固化至薄膜材料的内部，并且使所述底层基板的背面和表面反转；

第2涂布站，对经由所述反转站的底层基板的单面涂布液状薄膜材料并对涂布于所述底层基板的薄膜材料照射光来使薄膜材料的表层部固化；

中间堆料机，配置于所述反转站和所述第2涂布站之间，能够蓄积多个底层基板，并构成为能够将蓄积的底层基板搬出至基板制造装置的外部；

搬送装置，在所述第1涂布站、所述反转站、所述第2涂布站及所述中间堆料机之间搬送所述底层基板；及

控制装置，对所述第1涂布站、所述反转站、所述第2涂布站及所述搬送装置进行控制，

在所述第1涂布站及所述第2涂布站未发生故障的情况下，所述控制装置控制所述搬送装置，将在所述第1涂布站处理的底层基板搬送到所述反转站，进而将在所述反转站反转的底层基板搬送到所述第2涂布站，并在所述第2涂布站处理，

在所述第1涂布站未发生故障而所述第2涂布站发生故障的情况下，所述控制装置控制所述搬送装置，将在所述第1涂布站处理的底层基板搬送到所述反转站，进而将在所述反转站反转的底层基板搬送到所述中间堆料机。

2.根据权利要求1所述的基板制造装置，其中，

所述反转站在使涂布于所述底层基板的薄膜材料固化至内部之后，使所述底层基板的背面和表面反转。

3.根据权利要求1或2所述的基板制造装置，其中，

在所述反转站向涂布于所述底层基板的薄膜材料照射的光的能量密度高于在所述第1涂布站向涂布于所述底层基板的薄膜材料照射的光的能量密度。

4.根据权利要求1或2所述的基板制造装置，其中，

当所述第1涂布站发生故障而第2涂布站未发生故障时，所述控制装置控制所述搬送装置，将在所述中间堆料机中蓄积的底层基板搬送到所述第2涂布站，并在所述第2涂布站进行处理。