[发明专利]灯珠加工用旋转盘式反应室

权利要求书

1.灯珠加工用旋转盘式反应室，包括反应室主体（1），其特征在于：所述反应室主体（1）外上端中部固定设置有进气管（2），所述进气管（2）中央固定设置有隔流板（3），所述隔流板（3）延伸至反应室主体（1）内并且所述隔流板（3）底端固定连接有气流板（4），所述气流板（4）包括弧形板（5）与水平板（6），所述弧形板（5）与反应室内壁之间形成弧形通道（7），所述反应室内壁上固定设置有延伸板（8），所述水平板（6）与延伸板（8）之间形成水平通道（9），所述水平通道（9）一端在反应室主体（1）内上部中央固定设置有集气槽（10），所述集气槽（10）下端设有开口，所述反应室主体（1）中部底端外设置有电机（11），所述电机（11）的输出端通过联轴器连接有磁流体旋转轴（12），所述磁流体旋转轴（12）一端固定连接有旋转基座（13），所述旋转基座（13）下方设置有加热器（14），所述旋转基座（13）上端面固定设置有衬底基片（15），所述反应室主体（1）一侧的下方固定设置有排气管（16）。

2.根据权利要求1所述的灯珠加工用旋转盘式反应室，其特征在于：所述反应室主体（1）为球形腔体，所述反应室主体（1）的直径为20cm-200cm。

3.根据权利要求1所述的灯珠加工用旋转盘式反应室，其特征在于：所述弧形通道（7）与水平通道（9）数量至少为两组，所述水平通道（9）上设置有电磁阀（17）。

4.根据权利要求1所述的灯珠加工用旋转盘式反应室，其特征在于：所述集气槽（10）顶端内壁中部通过支撑杆固定设置有微风扇（18）。

5.根据权利要求1所述的灯珠加工用旋转盘式反应室，其特征在于：所述集气槽（10）开口的中心与所述衬底基片（15）的中心位置位于同一竖直线上，所述集气槽（10）开口与所述衬底基片（15）的距离为5cm－20cm。

6.根据权利要求1所述的灯珠加工用旋转盘式反应室，其特征在于：所述衬底基片（15）上开有若干晶圆槽（19）,所述晶圆槽（19）的直径为0.5cm-5cm。