[发明专利]对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置

权利要求书

1.一种对光源进行处理的装置，其特征在于，所述对光源进行处理的装置包括壳体、液态介质，其中：

所述壳体包括出光面；

所述光源与所述出光面之间有液态介质；

所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。

2.根据权利要求1所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述对光源进行处理的装置包括反射罩，所述光源设置于所述反射罩和出光面之间。

3.根据权利要求1所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述对光源进行处理的装置还包括温度控制模块，所述温度控制模块包括温度调节单元，所述温度控制单元包括散热流道，所述液态介质通过所述散热流道形成散热回路。

4.根据权利要求3所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述温度控制模块还包括温度检测单元、温度控制单元；

所述温度检测单元与所述温度控制单元相连，以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送到所述温度控制单元；

所述温度控制单元与温度调节单元连接，用于：

接收所述温度检测单元检测的温度信息；

根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。

5.根据权利要求3或4所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述散热流道包括传输管道、液体泵和散热模块，所述传输管道两端与液体介质接触，所述液体泵和散热模块设置于所述传输管道上，所述液体泵将所述液态介质泵入所述传输管道一端，经过所述散热模块散热后从传输管道另一端流出。

6.根据权利要求5所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述温度控制单元根据所述温度信息调节液体泵以使液态介质流经散热流道并散热。

7.根据权利要求1所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述对光源进行处理的装置还包括功率控制模块，

所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元；

所述功率检测单元与所述功率控制单元相连，以将检测的所述光源和/或从出光面透出的光线的功率信息传送给所述功率控制单元；

所述功率控制单元与所述功率调节单元连接，用于：

接收所述功率检测单元检测的功率信息；

根据所述功率信息控制功率调节单元调节所述光源的功率。

8.根据权利要求7所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述功率调节单元包括镇流器，所述镇流器连接光源，所述镇流器根据所述功率控制单元的信号改变输出功率以调节光源的功率。

9.根据权利要求1所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述壳体的出光面为石英玻璃。

10.根据权利要求1所述的对光源进行处理的装置，其特征在于，所述光源与所述壳体相对固定或所述光源悬浮在所述液态介质中。

11.一种发光装置，其特征在于，包括光源以及如权利要求1-10任一项所述的对光源进行处理的装置。

12.根据权利要求11所述的发光装置，其特征在于，所述光源为紫外光源。

13.根据权利要求12所述的发光装置，其特征在于，液态介质的吸收波长范围为大于700nm。

14.根据权利要求11所述的发光装置，其特征在于，所述发光装置放置在一箱体内，所述箱体与空气处理模块连接。

15.一种硅胶表面处理装置，其特征在于，包括权利要求11-14任一项所述的发光装置，所述发光装置的出光面透出的光照射待处理硅胶表面。