[发明专利]对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置

说明书

本发明涉及一种对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置，所述对光源进行处理的装置包括光源、壳体、液态介质和反射罩，所述壳体的至少一侧为透光材质且作为出光面；所述反射罩设置于所述出光的相对侧；所述光源设置于所述反射罩和出光面之间；所述壳体中至少在所述光源与所述出光面之间灌注有液态介质。上述对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置将光源放入液态介质中，对光源发出的光线进行选择性的吸收或透过，使有效光线大量透过，提高了有效光线的密度，且液态介质能够吸收光源产生的热量，降低硅胶片处理时表面的温度，同时采用了反射罩，将射向无效方向的光线反射回有效方向，提高了光线的利用率。

技术领域

本发明涉及光处理技术领域，特别是涉及一种对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置。

背景技术

紫外线除用来消毒和杀菌外，广泛应用在硅胶的表面处理。硅胶的表面处理是采用臭氧和紫外光线等产生的一系列复杂的反应，使硅胶表面满足一定的要求。

现在广泛采用的技术是采用低功率异型紫外光源或者有极紫外光源产生少量的臭氧并且光线照射在硅胶产品上，臭氧、光源有效光线和硅胶产生反应进行硅胶产品的处理。此过程中由于光线逸散，导致有效光线密度较小，因此反应过程较长，产生大量热量，效率较低且温度过高影响设备寿命。

发明内容

基于此，有必要针对目前的硅胶处理过程中由于光线逸散，导致有效光线密度较小，因此反应过程较长，产生大量热量，效率较低且温度过高影响设备寿命的问题，提供一种对光源进行处理的装置、发光装置及硅胶表面处理装置。

一种对光源进行处理的装置，用于对光源的光进行处理，所述对光源进行处理的装置包括壳体、液态介质，其中：

所述壳体包括出光面；

所述光源与所述出光面之间有液态介质；

所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。

在其中一个实施例中，所述对光源进行处理的装置包括反射罩，所述光源设置于所述反射罩和出光面之间。

在其中一个实施例中，所述对光源进行处理的装置还包括温度控制模块，所述温度控制模块包括温度调节单元，所述温度控制单元包括散热流道，所述液态介质通过所述散热流道形成散热回路。

在其中一个实施例中，所述温度控制模块还包括温度检测单元、温度控制单元；

所述温度检测单元与所述温度控制单元相连，以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送到所述温度控制单元；

所述温度控制单元与温度调节单元连接，用于：

接收所述温度检测单元检测的温度信息；

根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。

在其中一个实施例中，所述散热流道包括传输管道、液体泵和散热模块，所述传输管道两端与液体介质接触，所述液体泵和散热模块设置于所述传输管道上，所述液体泵将所述液态介质泵入所述传输管道一端，经过所述散热模块散热后从传输管道另一端流出。

在其中一个实施例中，所述温度控制单元根据所述温度信息调节液体泵以使液态介质流经散热流道并散热。

在其中一个实施例中，所述对光源进行处理的装置还包括功率控制模块，

所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元；

所述功率检测单元与所述功率控制单元相连，以将检测的所述光源和/或从出光面透出的光线的功率信息传送给所述功率控制单元；

所述功率控制单元与所述功率调节单元连接，用于：