[发明专利]一种低碱性聚合型受阻胺光稳定剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811266705.2 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN109942549A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 李靖;周彦博 申请(专利权)人: 北京天罡助剂有限责任公司
主分类号: C07D401/14 分类号: C07D401/14;C08G73/06;C08K5/3492;C08L79/04;C08L23/06;C08J5/18
代理公司: 北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11690 代理人: 张丹
地址: 102611 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚合型受阻胺 光稳定剂 低碱性 制备 受阻胺光稳定剂 应用范围广 光稳定 相容性 抽提 可用 应用
【说明书】:

本发明提供了一种通式为Ⅰ的化合物,所述化合物可用来制备低碱性聚合型受阻胺光稳定剂,该类受阻胺光稳定剂的光稳定效果优异,分子量大,耐抽提,碱性低,相容性好且应用范围广,本发明还提供了一种低碱性聚合型受阻胺光稳定剂的制备方法及应用。

技术领域

本发明涉及高分子材料领域,特别涉及一种低碱性聚合型受阻胺光稳定剂及其制备方 法。

背景技术

高分子材料如塑料、纤维和橡胶等,长期暴露在日光下,由于吸收了紫外线能量而引 起了自动氧化反应,导致了聚合物的降解;使得材料变色、发脆、性能下降,以致于无法继续使用,这一过程称之为光老化过程。光稳定剂是最常用的高分子材料添加剂之一,它可以防止或延缓老化保持其原来的优异性能以延长其使用寿命。

目前,光稳定剂品种繁多,按其作用机理可分为光屏蔽剂、紫外线吸收剂、猝灭剂和 自由基捕获剂。其中,受阻胺类光稳定剂(HALS)是20世纪70年代中期由日本三共公司研制开发的一类新型高效的光稳定剂,其光稳定效果是传统吸收型光稳定剂的2~4倍,是目前研究最广泛的光稳定剂之一。虽然这类光稳定剂开发的比较晚,但是发展迅速。早期的受阻胺光稳定剂品种虽然光稳定性能优异,但仍然存在着分子量低,碱性偏高等缺陷,使其适用范围较窄。因此,设计合成具有高分子量且低碱性的受阻胺光稳定剂是目前开发此类光稳定剂的主要研究方向。

现有技术中,专利CN102827148A提供了一种受阻胺类化合物,利用保护基团对GW-944 哌啶环上的氨基进行保护,然后利用亲核反应引入端烯基基团。作为高分子聚合物的光稳 定剂时,由于含有不饱和键的端烯基基团可以经辐射技术将其接枝到高分子链上,形成碳 碳键,因此受阻胺类化合物不易溶解析出,光稳定性增强。专利CN104725361A公开了光 稳定剂3346及其制备方法,光稳定剂3346是聚合型受阻胺光稳定剂,对耐候性要求较高的有色或无色聚烯烃制品的防护特别有效,而且特适用于农膜、纤维和模塑制品等,除了具有极好的光稳定性、与树脂极好的相容性、色浅、无毒和高温挥发性低等特点外,还具 有很好的热氧防护性能。

上述专利中披露的受阻胺光稳定剂仍然存在碱性较高的问题,限制了其与酸性树脂、 含卤阻燃剂和酚类抗氧剂的协同稳定作用。为克服现有技术的缺陷,在本发明中发明人设 计合成了一种低碱性聚合型受阻胺光稳定剂产品。

发明内容

本发明的目的在于设计合成一种低碱性聚合型受阻胺光稳定剂,利用该低碱性聚合型 受阻胺光稳定剂对抗由光、热或氧化所致的有机材料降解的问题;本发明还一个目的在于 提供一种该低碱性聚合型受阻胺光稳定剂的制备方法。

本发明提供一种通式为Ⅰ的化合物:

R1、R2和R3独立的选自:C1-20烷基或C3-12环烷基;

优选的,所述C1-20烷基选自:甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基丁基、正戊基、异戊基、1-甲基戊基、1,3-二甲基丁基、正己基、1-甲基己 基、正庚基、异庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、2-乙基己 基、1,1,3-三甲基己基、1,1,3,3-四甲基戊基、壬基、癸基、十一烷基、1-甲基十一烷基、十 二烷基、1,1,3,3,5,5-六甲基己基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、 十八烷基及二十烷基;

更优选的,所述C1-20烷基选自:甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基丁基、正戊基、异戊基、1-甲基戊基、1,3-二甲基丁基、正己基、1-甲 基己基、正庚基、异庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、2-乙 基己基、1,1,3-三甲基己基、1,1,3,3-四甲基戊基、壬基、癸基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京天罡助剂有限责任公司,未经北京天罡助剂有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811266705.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top