[发明专利]真空干燥装置和真空干燥条件的确定方法

权利要求书

1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括：

真空干燥腔，所述真空干燥腔中设有工作台，所述工作台用于承载基板或设有待干燥的功能膜层的基板；

加热机构，用于使所述真空干燥腔达到预设温度并控制预设真空干燥时间；

抽真空机构，用于使所述真空干燥腔达到预设真空度；

形貌检测组件，包括光源、光接收机构和信号处理机构；所述光源和所述光接收机构设于所述真空干燥腔内，所述光源用于向所述工作台发射光；所述光接收机构用于接收经所述基板散射的光，并转换成基板的初始平整度光信号，还用于在预设真空干燥条件下接收经所述功能膜层散射的光，并转换成所述功能膜层的实时平整度光信号；所述信号处理机构与所述光接收机构连接，用于根据所述基板初始平整度光信号和所述功能膜层的实时平整度光信号，确定所述功能膜层的真空干燥条件；

其中，所述预设真空干燥条件包括所述预设温度、所述预设真空度和所述预设真空干燥时间。

2.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述信号处理机构包括比较模块和处理模块，所述比较模块用于比较所述基板初始平整度光信号和所述功能膜层的实时平整度光信号的强度，所述处理模块用于根据比较结果确定所述功能膜层的真空干燥条件。

3.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述光源射向所述工作台的出射光的角度可调节，所述出射光与所述工作台的夹角为α，且0α90°。

4.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述光源的光谱波长为400nm～1000nm。

5.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述光接收机构设于所述光源射向所述工作台形成的光斑的中心点的正上方。

6.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述形貌检测组件还包括透镜，所述透镜为平凹透镜，所述平凹透镜设于所述光接收机构和所述工作台之间，且所述平凹透镜的平面与所述工作台平行。

7.根据权利要求1～6任一所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括控制机构，所述控制机构与所述加热机构、所述抽真空机构、所述信号处理机构电连接，用于控制所述加热机构、所述抽真空机构、所述信号处理机构的运行，并接收来自所述信号处理机构输出的所述真空干燥条件，根据所述真空干燥条件控制所述加热机构、所述抽真空机构、所述信号处理机构的运行。

8.一种真空干燥条件的确定方法，其特征在于，包括以下真空干燥条件的确定步骤：

获取基板的初始平整度光信号；

预设真空干燥条件，所述预设真空干燥条件包括预设真空干燥时间、预设温度和预设真空度，将设有待干燥的功能膜层的所述基板于所述预设温度和所述预设真空度下进行预设真空干燥时间的干燥处理，并对所述基板上的功能膜层的形貌进行实时扫描检测，获取所述干燥处理的过程中若干个所述功能膜层的实时平整度光信号；

根据所述功能膜层的实时平整度光信号与所述基板的初始平整度光信号，确定所述功能膜层的真空干燥条件。

9.根据权利要求8所述的真空干燥条件的确定方法，其特征在于，根据所述功能膜层的实时平整度光信号与所述基板的初始平整度光信号，确定所述功能膜层的真空干燥条件的步骤包括如下步骤：

将所述若干个所述功能膜层的实时平整度光信号与所述基板平整度的初始平整度光信号的强度一一进行比较，获取与所述基板的初始平整度光信号的强度差值最小的所述功能膜层的实时平整度光信号对应的时间点，并确定于所述干燥处理的过程中零至该时间点所对应的所述预设真空干燥条件为所述功能膜层的真空干燥条件。

10.根据权利要求8所述的真空干燥条件的确定方法，其特征在于，所述确定方法还包括对确定的所述功能膜层的真空干燥条件进行验证的步骤，所述验证的步骤为：将设有待干燥的功能膜层的所述基板于所述确定的所述功能膜层的真空干燥条件下进行干燥处理，对干燥后的所述功能膜层进行性能检测，判断所述功能膜层是否合格，如果不合格，则重新预设真空干燥条件，并重复所述真空干燥条件的确定步骤。