[发明专利]一种陶瓷清洁石及其制备方法在审
| 申请号： | 201811271157.2 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109317430A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 贺照纲 | 申请（专利权）人： | 鋐源光电科技（厦门）有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B24B1/00;B28D1/00;C04B35/10;C04B35/581 |
| 代理公司： | 厦门加减专利代理事务所(普通合伙) 35234 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 361100 福建省厦门市火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洁 陶瓷 制备 压合座 使用寿命 烧结 三氧化二铝 抛光 粗糙度 氮化铝 抛光面 平坦度 残胶 刮伤 | ||
【权利要求书】：
1.一种陶瓷清洁石，其特征在于：包括清洁石本体(10)；所述清洁石本体(10)由三氧化二铝或氮化铝烧结而成；所述清洁石本体(10)设有抛光面(11)；所述抛光面(11)的平坦度在1μm、粗糙度在0.1μm以下。
2.根据权利要求1所述的陶瓷清洁石，其特征在于：所述清洁石本体(10)设有刻印面(12)。
3.根据权利要求1所述的陶瓷清洁石，其特征在于：所述清洁石本体(10)为立方体。
4.根据权利要求1所述的陶瓷清洁石，其特征在于：所述三氧化二铝、氮化铝的纯度百分比均在85％以上。
5.根据权利要求1所述的陶瓷清洁石，其特征在于：所述抛光面(11)的平坦度为1μm-0.3μm，粗糙度为0.1μm-0.03μm。
6.一种陶瓷清洁石的制备方法，其特征在于：所述制备方法具体如下：
S10、选取三氧化二铝或氮化铝烧结制成的烧结体为素材；
S20、对素材进行切割；
S30、切割完成后，对素材进行研磨和抛光，使抛光面的平坦度在1μm、粗糙度在0.1μm以下；
S40、品检确认平坦度和粗糙度后激光打标，形成清洁石本体。
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