[发明专利]一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置有效
申请号: | 201811271752.6 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109455312B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 陈劲松;曾玲芳;平仕良;张筱;吴新跃;王南;张国栋;刘英;代春涛 | 申请(专利权)人: | 北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院 |
主分类号: | B64G1/00 | 分类号: | B64G1/00;F25D31/00 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 张辉 |
地址: | 100076 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发射 平台 高位 防护 喷水 降温 装置 | ||
1.一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,其特征在于:包括N个布置在发射平台台体上的喷水阵列,N个喷水阵列均与发射平台台体内部的内置流道连通,每个喷水阵列与一个助推火箭相对应,用于向对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域喷水,N为发射平台上助推火箭的个数;所述N个喷水阵列采用高位喷水形式,所述内置流道与外部供水系统连通;
每个喷水阵列为圆弧形,且每个喷水阵列沿对应助推火箭与芯级火箭的中心连线对称布置;
所述每个圆弧形喷水阵列的圆心为对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域的中心;
所述喷水阵列的喷嘴到发射平台台体上表面的距离为0.2m-1.5m;
所述喷水阵列的喷嘴为蘑菇头喷嘴,每个蘑菇头喷嘴包括喷嘴底座(15)和喷嘴上盖(14),喷嘴底座(15)和喷嘴上盖(14)均为中空结构,喷嘴底座(15)安装在发射平台台体上,与发射平台台体内部的内置流道连通;
喷嘴上盖(14)侧壁上从底面向上开有凹槽(16),当喷嘴上盖(14)安装在喷嘴底座(15)上后,所述凹槽(16)与喷嘴底座(15)之间形成出水口,出水口为扇形或栅格状;
所述喷嘴上盖(14)在喷嘴底座(15)上的安装位置能够上下调节,以改变出水口面积。
2.根据权利要求1所述的一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,其特征在于:所述每个圆弧形喷水阵列的半径为1.5r-2.5r,r为对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域的半径。
3.根据权利要求1所述的一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,其特征在于:所述每个圆弧形喷水阵列的圆心角为60°-120°。
4.根据权利要求1所述的一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,其特征在于:所述每个喷水阵列喷水方向倾斜向下,与水平方向夹角为0-30°。
5.根据权利要求1所述的一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,其特征在于:所述喷水阵列中,每个出水口的出水角度为90°-150°。
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