[发明专利]一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置有效
申请号: | 201811271752.6 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109455312B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 陈劲松;曾玲芳;平仕良;张筱;吴新跃;王南;张国栋;刘英;代春涛 | 申请(专利权)人: | 北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院 |
主分类号: | B64G1/00 | 分类号: | B64G1/00;F25D31/00 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 张辉 |
地址: | 100076 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发射 平台 高位 防护 喷水 降温 装置 | ||
本发明公开了一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,包括多个布置在发射平台台体上,与内置流道连通的喷水阵列,每个喷水阵列与一个助推火箭相对应,用于向对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域喷水,喷水阵列采用高位喷水形式,内置流道与外部供水系统连通。本发明能够适应助推火箭燃气流影响范围扩大的现象,可覆盖更大的台面范围,且可以持续较长时间影响燃气流剪切层,更好地实现能量与动量交换,实现有效防护。
技术领域
本发明涉及一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,属于航天发射热防护技术领域。
背景技术
捆绑式运载火箭发射过程采用喷水技术能够有效控制喷流噪声,同时能够有效防护发射平台、导流设施。
目前发射平台主要在导流孔附近设置紧贴台面的阵列喷嘴方式实现喷水降温、降噪功能,现有研究发现,随着火箭起飞高度增加,燃气流的影响范围逐渐由导流孔扩展至台面,现有的喷水降温降噪装置不能解决燃气流对台面的影响。另外,对于捆绑式运载火箭,助推火箭燃气流由影响导流孔扩展至台面的时间提前,并且持续影响时间更长,现有的紧贴台面的喷水装置对燃气流剪切层作用有限,不能实现有效防护。
发明内容
本发明的技术解决问题是:克服现有技术的不足,提供一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,能够适应助推火箭燃气流影响范围扩大的现象,可覆盖更大的台面范围,且可以持续较长时间影响燃气流剪切层,更好地实现能量与动量交换,实现有效防护。
本发明的技术解决方案是:
一种发射平台的高位防护喷水降温降噪装置,包括N个布置在发射平台台体上的喷水阵列,N个喷水阵列均与发射平台台体内部的内置流道连通,每个喷水阵列与一个助推火箭相对应,用于向对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域喷水,N为发射平台上助推火箭的个数;所述N个喷水阵列采用高位喷水形式,所述内置流道与外部供水系统连通。
每个喷水阵列为圆弧形,且每个喷水阵列沿对应助推火箭与芯级火箭的中心连线对称布置。
所述每个圆弧形喷水阵列的圆心为对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域的中心。
所述每个圆弧形喷水阵列的半径为1.5r-2.5r,r为对应助推火箭燃气流对台体表面影响区域的半径。
所述每个圆弧形喷水阵列的圆心角为60°-120°。
所述每个喷水阵列喷水方向倾斜向下,与水平方向夹角为0-30°。
所述喷水阵列的喷嘴到发射平台台体上表面的距离为0.2m-1.5m。
所述喷水阵列的喷嘴为蘑菇头喷嘴,每个蘑菇头喷嘴包括喷嘴底座和喷嘴上盖,喷嘴底座和喷嘴上盖均为中空结构,喷嘴底座安装在发射平台台体上,与发射平台台体内部的内置流道连通;
喷嘴上盖侧壁上从底面向上开有凹槽,当喷嘴上盖安装在喷嘴底座上后,所述凹槽与喷嘴底座之间形成出水口,出水口为扇形或栅格状。
所述喷嘴上盖在喷嘴底座上的安装位置能够上下调节,以改变出水口面积。
所述喷水阵列中,每个出水口的出水角度为90°-150°。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
(1)本发明高位喷水降温降噪装置设置为围绕每个助推火箭燃气流影响区域的圆弧形喷水阵列,结合具体参数设计(包括圆心、半径、圆心角),能够形成覆盖每个助推火箭燃气流影响区域的喷水水幕区域,以适应每个助推火箭燃气流影响范围扩大的现象。
(2)本发明喷水降温降噪装置为高位设计,通过具体的高度和喷水角度设计,可以持续较长时间影响燃气流剪切层,更好地实现能量与动量交换,同时可覆盖更大的台面范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院,未经北京航天发射技术研究所;中国运载火箭技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811271752.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。