[发明专利]基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置及制备方法在审
申请号: | 201811273697.4 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109055915A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 朱权;李象远;王健礼 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/46;C23C16/52;C23C16/04 |
代理公司: | 成都瑞创华盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51270 | 代理人: | 邓瑞;辜强 |
地址: | 610065 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 预热段 供气系统 出气端 反应段 进气端 化学气相沉积装置 沉积系统 电流加热 沉积 制备 氮气 装置占用空间 均匀致密 涂层表面 单内壁 微通道 稀释气 长程 成膜 载气 加热 能耗 | ||
1.一种基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,该装置包括供气系统、Ti源系统和沉积系统,所述供气系统提供稀释气、载气和氮气,所述沉积系统包括预热段、反应段,所述预热段、反应段均通过电流进行加热,所述供气系统的出气端与Ti源系统的进气端连接,所述Ti源系统的出气端与预热段的进气端连接,预热段的出气端与反应段的进气端连接。
2.根据权利要求1所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,所述供气系统包括稀释气罐、载气罐、N2罐和三组供气气路,每组供气气路均包括依次连接的干燥管、减压阀和质量流量计,所述稀释气罐连接一组供气气路的干燥管,所述载气罐连接另一组供气气路的干燥管,所述N2罐连接第三组供气气路的干燥管。
3.根据权利要求2所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,所述Ti源系统包括加热带、混气罐和TiCl4罐,与稀释气罐连接的供气气路连接到混气罐,与N2罐连接的供气气路连接到混气罐,与载气罐连接的供气气路连接到TiCl4罐,TiCl4罐通过管道连接混气罐,所述混气罐通过管道连接到沉积系统的预热段,所述TiCl4罐、混气罐以及混气罐与预热段之间的连接管道均置于加热带内。
4.根据权利要求3所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,与载气罐连接的供气气路与TiCl4罐之间设有球阀,混气罐与TiCl4罐的连接管道上设有球阀,混气罐与预热段之间的连接管道上设有球阀。
5.根据权利要求3所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,三组供气气路的管道为聚四氟乙烯管,TiCl4罐的进出口为316L型Φ6.35mm不锈钢管,混气罐与预热段之间的连接管道为316L型Φ6.35mm不锈钢管。
6.根据权利要求1所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,所述预热段和反应段的外壁均设有热电偶,相邻热电偶的间隔为5cm,热电偶的数据通过数据采集系统进行采集。
7.根据权利要求1所述的基于电流加热的TiN涂层化学气相沉积装置,其特征在于,该装置还包括尾气处理系统,该尾气处理系统通过球阀连接反应段。
8.一种利用权利要求1所述装置制备TiN涂层的制备方法,其特征在于,该方法包括步骤:
(1)对不锈钢样品进行清洗预处理;
(2)将涂层样件的进口连接到预热段的后端,将电流加热设备分别对接到预热段和反应段的涂层样件;
(3)升温前,通过供气系统进行氮气吹扫,除去整个装置中的空气;开启供气系统的氮气和稀释气,并分别对Ti源、预热段和反应段进行加热,控制Ti源温度为120℃,控制预热段温度为750℃,控制反应段温度为850℃;开启供气系统的载气,载气带出TiCl4蒸气与氮气和稀释气混合均匀后进入预热段,再进入到反应段进行沉积反应,制备TiN涂层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的