[发明专利]液晶面板及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶面板，其特征在于，包括

彩膜基板；

阵列基板，与所述彩膜基板相对设置；以及

内置偏光片，包括

基板，覆于所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面；

第一无机层，覆于所述基板上；

金属线栅层，覆于所述第一无机层上，所述金属线栅层中具有若干相互平行的金属线；

第二无机层，具有若干条相互平行的无机线；每一所述无机线对应的覆于一所述金属线上。

2.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述基板所用材料为聚酰亚胺或玻璃；所述基板的厚度为0.1-1mm。

3.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述彩膜基板包括

量子点彩色滤光片，设于所述基板远离所述第一无机层的一侧；以及

封装层，覆于所述量子点彩色滤光片上；所述封装层对水汽和氧气的透过率小于1×10^-2。

4.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，还包括

液晶层，设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间；以及

间隔物层，设于所述内置偏光片朝向所述阵列基板的一侧。

5.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述金属线栅层的高度为180-250nm，相邻两根所述金属线之间的间距为60-80nm。

6.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述金属线栅层的材料包括铝、铜、银、铬、金及镍中的至少一种；所述第一无机层和第二无机层所用材料为材料分别包括氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮氧化硅及氧化铪中的一种或多种。

7.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

制作内置偏光片，包括以下步骤：

提供一基板；

沉积第一无机层于所述基板的一面；

沉积金属线栅层于所述第一无机层上；

沉积第二无机层于所述金属线栅层上；

涂布形成一层光阻层于第二无机层上；

提供纳米压印模板，采用所述纳米压印模板纳米压印所述光阻层，由所述光阻层得到光阻图案，所述光阻图案具有并列间隔的多条光阻条；以所述光阻图案为遮蔽层，蚀刻所述第二无机层和金属线栅层，对应的所述多条光阻条在所述金属线栅层上和第二无机层上分别蚀刻出多条并列间隔的金属线和多条并列间隔的无机线，去除所述光阻图案，所述基板、所述金属线栅层和所述金属线栅层两侧的所述第一无机保护层、所述第二无机保护层共同构成内置偏光片；

提供阵列基板，并组装所述阵列基板和所述内置偏光片，其中所述第二无机层朝向所述阵列基板；

制作彩膜基板于所述内置偏光片的所述基板上。

8.根据权利要求7所述的内置偏光片的制作方法，其特征在于，在制作内置偏光片步骤中，还包括薄化处理所述基板，使所述基板的厚度在0.1-1mm之间。

9.根据权利要求7所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，在组装所述阵列基板和所述内置偏光片的步骤中，包括：在所述第二无机层朝向所述阵列基板的一侧形成间隔物层。

10.根据权利要求7所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，

在制作彩膜基板步骤中，包括

制作量子点彩色滤光片于所述基板远离所述第一无机层的一侧；

制作封装层于所述量子点彩色滤光片上，所述封装层对水汽和氧气的透过率应小于1×10^-2；

在制作彩膜基板步骤之后，还包括以下步骤：

填充液晶于所述彩膜基板与所述阵列基板之间，形成液晶层；

制作量子点彩色滤光片于所述基板远离所述第一无机层的一侧。