[发明专利]等离子体发生器及等离子体清洗装置在审
| 申请号： | 201811279845.3 | 申请日： | 2018-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN109365411A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王永青 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B5/04 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体喷管 等离子体发生器 待处理表面 等离子体清洗装置 公共流道 出口端 进气端 出口端面 距离相等 均匀排列 流体连接 组件包括 复数 应用 | ||
1.一种等离子体发生器，用于处理一待处理表面，其特征在于，所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道；其中，每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；
每一所述等离子体喷管通过所述进气端与所述公共流道流体连接，且每一所述等离子体喷管在所述公共流道上均匀排列；并且，
每一所述等离子体喷管的所述出口端面朝所述待处理表面，并且，每一述等离子体发生器的所述出口端与所述待处理表面之间的距离相等。
2.如权利要求1所述的等离子体发生器，其特征在于，所述离子体发生器还包括一气体源，所述气体源与所述公共流道流体连接，用于向每一所述等离子体喷管组件提供气体。
3.如权利要求2所述的等离子体发生器，其特征在于，所述离子体发生器还包括一激励电源，所述激励电源与每一所述等离子体喷管导电连接，用以将由所述进气端进入所述等离子体喷管内的气体激发为等离子体。
4.如权利要求3所述的等离子体发生器，其特征在于，所述激励电源为高压射频发生器。
5.如权利要求1所述的等离子体发生器，其特征在于，所述进气端的直径大于所述出口端的直径。
6.如权利要求1至5中任一项所述的等离子体发生器，其特征在于，所述等离子体发生器包括复数个等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件的所述公共流道相互平行设置。
7.如权利要求6所述的等离子体发生器，其特征在于，所述等离子体喷管的所述出口端交错设置。
8.一种等离子体清洗装置，包括至少一如权利要求1所述的等离子体发生器和一平台，所述平台设置于所述等离子体发生器下方，用于放置一待处理表面。
9.如权利要求7所述的等离子体清洗装置，其特征在于，所述等离子体清洗装置还包括一处理室，所述待处理表面在所述处理室内进行等离子体清洗处理。
10.如权利要求8所述的等离子体清洗装置，其特征在于，所述处理室通过至少一排气管与一真空排气装置连接，用以在所述处理室内形成真空环境。
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