[发明专利]等离子体发生器及等离子体清洗装置

说明书

本发明提供一等离子体发生器和应用该等离子体发生器的等离子体清洗装置，用于处理一待处理表面。所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道。每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；其中，每一所述等离子体喷管通过所述进气端与所述公共流道流体连接，且每一所述等离子体喷管在所述公共流道上均匀排列；并且，每一所述等离子体喷管的所述出口端面朝所述待处理表面，并且，每一述等离子体发生器的所述出口端与所述待处理表面之间的距离相等。

技术领域

本发明涉及显示面板技术领域，尤其涉及用于显示面板的基板或盖板清洗的等离子体发生器及等离子体清洗装置。

背景技术

等离子体具有宏观温度低，电子温度高的特点，其富含高活性激发态离子和高能带电粒子，因而适用于对材料表面的改性和玻璃等物体表面的清洗。

图1所示的是现有技术中一常见的等离子体发生装置1。如图1所示，所述等立体自发生装置1包括：气体源11，高压射频发生器12和喷头13。所述喷头13具有一内腔131，所述内腔131为绝缘体。所述气体源11内的气体通过一气路111在所述喷头13的所述内腔131内形成气流112。所述高压射频发生器12则通过在所述喷头13内的一阴极及一中枢电极121施加射频电压，以形成高频交变电场。进而，使得所述内腔131内的气流112在电弧122激荡下形成等离子体束2。

在半导体行业和显示面板行业中，需要经常使用到上述等离子体束2对产品进行清洗以增加其表面附着力，例如，对玻璃基板的清洁，绑定前对端子部的清洁，以及贴合前对玻璃盖板的清洁等。通过等离子体束2对被清洗物进行物理轰击，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，随后经过抽真空排出，从而达到清洗目的。

图2所示的是现有技术中一常见的等离子体清洗装置3。如图2所示，所述等离子体清洗装置3包括一等离子体发生筒31。所述等离子体发生筒31的一端为进气口311，一端为出气口312。所述进气口311与出气口312分别设有环形电极32，并进而与一激励电源33导电连接。使得所述等离子体发生筒31内的气体形成等离子体。此外，通过在所述等离子体发生筒31上等距间隔的喷管311，对一待清洁表面S射出等离子体束进行清洗。

然而，在图2所示的等离子体清洗装置3中，由于等离子体为在所述等离子体发生筒31内产生后通过喷管311射出，存在等离子体射出不均匀现象，从而导致清洗效果不均匀。此外，在面临曲面待清洁表面时，所述等离子体清洗装置3还存在清洗死角的问题。

有鉴于此，需要提供一种新的等离子体发生器，以克服上述缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种等离子体发生器，所述等离子体发生器通过模组化的结构设计，可以应用于等离子体清洗装置。此外，本发明所述的等离子体发生器及应用该等离子体发生器的等离子体清洗装置，尤其适合于清洗曲面盖板，通过合理设置等离子体喷管以达到最佳的清洗均匀性。

为了达到上述目的，本发明提供一种等离子体发生器，用于处理一待处理表面。所述等离子体发生器包括至少一等离子体喷管组件，所述等离子体喷管组件包括复数个等离子体喷管和一公共流道；其中，每一等离子体喷管具有一进气端和一出口端；

每一所述等离子体喷管通过所述进气端与所述公共流道流体连接，且每一所述等离子体喷管在所述公共流道上均匀排列；并且，

每一所述等离子体喷管的所述出口端面朝所述待处理表面，并且，每一述等离子体发生器的所述出口端与所述待处理表面之间的距离相等。

在本发明一实施例中，所述离子体发生器还包括一气体源，所述气体源与所述公共流道流体连接，用于向每一所述等离子体喷管组件提供气体。

在本发明一实施例中，所述离子体发生器还包括一激励电源，所述激励电源与每一所述等离子体喷管导电连接，用以将由所述进气端进入所述等离子体喷管内的气体激发为等离子体。