[发明专利]曝边机及曝光方法

权利要求书

1.一种曝边机，其特征在于，包括：

支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，

在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电，其中，在所述曝边机中垂直所述第一侧壁的第三侧壁以及垂直所述第二侧壁的第四侧壁上设置开口，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除所述基板的静电，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射。

2.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。

3.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述第一侧壁以及所述第二侧壁上的所述多个照射源与所述多个支撑针的顶部处于同一竖直高度。

4.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面为方形的支撑面，所述多个照射源相对于所述方形的支撑面的拐角设置。

5.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。

6.一种曝光方法，其特征在于，包括：

在支撑面两侧相对设置的第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置多个照射源，在垂直所述第一侧壁的第三侧壁以及垂直所述第二侧壁的第四侧壁上设置开口，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除基板的静电；

在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触产生的静电。

7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。

8.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，包括：

在曝光基板时通过所述照射面对所述支撑面进行照射。

9.如权利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。