[发明专利]TFT玻璃薄化工艺蚀刻液在审
申请号: | 201811297070.2 | 申请日: | 2018-11-01 |
公开(公告)号: | CN109081601A | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 杨奕琳;赵开秋;张继红 | 申请(专利权)人: | 邓惠玉;杨奕琳;赵开秋;张继红 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 天津合志慧知识产权代理事务所(普通合伙) 12219 | 代理人: | 陶怡 |
地址: | 528199 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 重量百分比 蚀刻液 薄化 羟丙基甲基纤维素 醇聚氧乙烯醚 葡萄糖酸内酯 中链甘油三酯 质量百分比 氢氟酸 渗透剂 盐酸 优选 | ||
TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,所述组合物由以下组分组成:重量百分比含量5‑8%的盐酸(HCl),重量百分比含量2‑4%的葡萄糖酸内酯,重量百分比含量2%~5%的氢氟酸(HF),重量百分比含量0.3~0.5%的中链甘油三酯(MCT,优选)、重量百分比3~5%的C8‑10醇聚氧乙烯醚(渗透剂OE‑6)质量百分比1‑2%的羟丙基甲基纤维素(HPMC)及余量的水。
技术领域
本发明涉及用于TFT玻璃基板蚀刻组合物。
背景技术
在现有技术中,为满足制作超薄TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)显示屏的要求,需要对现有规格玻璃基板进行薄化处理。常规的氢氟酸作为蚀刻液的蚀刻方式会产生局部缺陷,一般须要在薄化完成后进行抛光处理。抛光后的玻璃基板表面光泽度高,但易产生眩光,需要进行额外的防眩处理。如中国专利2016112686887公开了TFT玻璃基板薄化工艺预处理剂,其配方为以TFT玻璃基板薄化工艺预处理剂,其特征在于所述预处理剂由以下组分组成:质量百分比含量8~12%的盐酸(HCl),质量百分比含量3-5%的硝酸,质量百分比含量2%~5%的氢氟酸(HF),质量百分含量0.1~0.2%的氯化钙,质量百分比含量1~2%的羟丙基甲基纤维素(HPMC),质量百分比含量0.5~1%的结冷胶,及余量的水。采用该预处理剂对液晶玻璃基板进行预处理后,再进行薄化处理后可以提高薄化处理的质量,但还需要进行抛光,无论是作为薄化预处理剂还是直接作为薄化用蚀刻液,采用该预处理均无法在玻璃表面形成适当的雾度以防眩。中国专利文献CN2011102930815公开了一种防眩玻璃的蚀刻液,但在研究中发现,采用这种方式制得的防眩玻璃在仅能用于对TFT基板进行表面进行处理,无法直接用于薄化,尤其无法实现在薄化的同时即提高薄化后基板的表面质量,又能使玻璃基板表面产生适当的雾度从而产生防眩效果。因此提供能够防眩的TFT玻璃薄化蚀刻液,能够在玻璃基板进行薄化的同时,使表面产生合适的雾度从而实现防眩效果,成为现有技术中亟待解决的问题。
发明内容
为解决前述技术问题,本发明提供了用于TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,通过优选蚀刻液的处方,并采用适当的薄化处理工艺,意外的发现在对TFT玻璃基板的进行薄化的同时,可以在基板表面形成适当的雾度,并能够减少表面进行防眩减反射处理的效果。为解决前述技术问题本发明采用的技术方案为:
提供了TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,所述组合物由以下组分组成:重量百分比含量5%-8%的盐酸(以HCl计),重量百分比含量2%-4%的葡萄糖酸内酯,重量百分比含量4%~7%的氢氟酸(以HF计),重量百分比含量0.3~0.5%的中链脂肪酸甘油三酯(MCT)、重量百分比3~5%的C8-10醇聚氧乙烯醚,质量百分比1-2%的羟丙基甲基纤维素(HPMC)及余量的水。
所述的TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,所述组合物由以下组分组成:重量百分比含量6-7%的盐酸,重量百分比含量2.5-3.5%的葡萄糖酸内酯,重量百分比含量5%~6%的氢氟酸,重量百分比含量0.3~0.5%的中链甘油三酯(MCT)、重量百分比3.5~4.5%的C8-10醇聚氧乙烯醚,质量百分比1.5-2%的羟丙基甲基纤维素(HPMC)及余量的水。
所述的TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,其特征是所述C8-10醇聚氧乙烯醚为渗透剂OE-6,其所述中链甘油三酯为C8~C10脂肪酸的甘油三酯。所述羟丙基甲基纤维素的粘度规格为3000~6000mpa.s,优选4000mpas
所述用于TFT玻璃薄化工艺蚀刻液,其特征在于以如下方法配制,
1)将处方量盐酸与氢氟酸混合,加入适量水稀释,
2)将处方量的羟丙基甲基纤维素(HPMC)和葡萄糖酸内酯分别溶于水后混合;
3)将处方量的C8-10醇聚氧乙烯醚和MCT混合后加入适量水乳化分散
4)先将步骤1)和步骤2)得到的混合液混合,在搅拌条件下再将步骤3)的混合液缓缓加入后混合均匀。
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