[发明专利]一种正性光刻胶去胶清洗组合物及其应用

权利要求书

1.一种正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，主要组分包括季铵类氢氧化物、水溶性链烷醇胺、水溶性有机极性溶剂和具有环己基的酯类化合物，具有环己基的酯类化合物为选自甲酸环己酯、乙酸环己酯、丙酸环己酯、2-甲基丙酸环己酯、巯基丙酸环己酯、环己甲酸甲酯、环己甲酸乙酯中的一种或两种以上的组合;

按重量百分比计，其组成包括季铵类氢氧化物1～10%、水溶性链烷醇胺10～30%、水溶性有机极性溶剂40～80%和具有环己基的酯类化合物3～25%。

2.根据权利要求1所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，具有环己基的酯类化合物为选自甲酸环己酯、乙酸环己酯、丙酸环己酯、2-甲基丙酸环己酯、巯基丙酸环己酯中的一种或两种以上的组合。

3.根据权利要求2所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，具有环己基的酯类化合物为巯基丙酸环己酯，或者由巯基丙酸环己酯和选自甲酸环己酯、乙酸环己酯、丙酸环己酯、2-甲基丙酸环己酯中的至少一种组合而成。

4.根据权利要求1所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，季铵类氢氧化物为选自氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化一甲基三丙基铵、氢氧化二甲基二乙基铵中的一种或两种以上的组合。

5.根据权利要求1所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，水溶性有机极性溶剂为选自二甲基亚砜、二甲基砜、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或两种以上的组合。

6.根据权利要求1所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，水溶性链烷醇胺为二乙醇胺、三乙醇胺和异丙醇胺中的一种或两种以上的组合。

7.根据权利要求1所述的正性光刻胶去胶清洗组合物，其特征在于，还包括金属缓蚀剂。

8.权利要求1至7中任意一项所述的正性光刻胶去胶清洗组合物在基板光刻胶剥离工艺中的应用，其特征在于，所述的基板光刻胶为正性光刻胶。