[发明专利]锅具及其制备方法和烹饪器具

权利要求书

1.一种锅具，其特征在于，包括：

锅体；

准晶镀膜，所述准晶镀膜设置在所述锅体的内表面上，

其中，所述准晶镀膜是通过磁控溅射或多弧离子镀制备得到的。

2.根据权利要求1所述的锅具，其特征在于，所述准晶镀膜是通过偏压磁控溅射或偏压多弧离子镀制备得到的。

3.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，形成所述锅体的材料选自碳钢、铝合金、不锈钢、铁或陶瓷中的至少一种。

4.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，所述准晶镀膜的厚度为0.1微米～10微米。

5.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，所述准晶镀膜中的准晶含量为60wt％～90wt％。

6.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，所述准晶镀膜的空隙率小于等于0.1％。

7.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，所述准晶镀膜的表面粗糙度小于等于1.6微米。

8.根据权利要求1或2所述的锅具，其特征在于，形成所述准晶镀膜原料包括原子个数比为(60-70)：(15-25)：(5-15)：(5-15)的铝、铜、铁和附加元素，其中，所述附加元素包括铬和钛中的至少一种。

9.一种制备权利要求1～8中任一项所述的锅具的方法，其特征在于，包括：

提供锅体；

通过磁控溅射或多弧离子镀在所述锅体的内表面上形成准晶镀膜。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述磁控溅射或多弧离子镀是在以下至少之一的条件下完成的：

真空度为1.0x10^-2Pa～1.0x10^-3Pa；

功率为6kW～18kW；

偏压为-100V～-300V；

沉积时间为60-180分钟。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，形成所述准晶镀膜的步骤包括：

将铝、铜、铁和附加元素按原子个数比(60-70)：(15-25)：(5-15)：(5-15)混合，在真空或保护气氛中熔炼形成合金锭，其中，所述附加元素包括铬和钛中的至少一种；

将所述合金锭加工为预定尺寸的靶材；

利用所述靶材在所述锅体上形成所述准晶镀膜。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述锅体上形成所述准晶镀膜之前，进一步包括：

对所述靶材进行退火处理的步骤。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述退火处理是在以下条件下完成的：

温度为700～900℃，时间为6～12小时。

14.一种烹饪器具，其特征在于，包括权利要求1～8中任一项所述的锅具。