[发明专利]触控基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201811299823.3 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN109471559B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 许占齐;邱震;陈璀;李扬杰 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 刘伟;张博
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 触控基板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种触控基板的制作方法,其特征在于,所述触控基板包括位于衬底基板上、依次设置的第一触控电极、第一绝缘层、第二触控电极和第二绝缘层,所述制作方法包括:

通过一次构图工艺形成所述第二触控电极和所述第二绝缘层的图形;

所述第二绝缘层采用光刻胶,所述通过一次构图工艺形成所述第二触控电极和所述第二绝缘层的图形包括:

形成第二金属层;

在所述第二金属层上涂覆光刻胶;

采用掩膜板对光刻胶进行曝光,使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域,其中,光刻胶保留区域对应于第二触控电极的图形所在区域,光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域;

显影后形成所述第二绝缘层的图形;

去除掉未被所述第二绝缘层的图形覆盖的第二金属层,形成所述第二触控电极;

形成所述第二触控电极和所述第二绝缘层的图形之后,所述制作方法还包括:

对所述第二绝缘层的图形进行退火工艺,使得所述第二绝缘层的图形包覆所述第二触控电极的侧表面。

2.根据权利要求1所述的触控基板的制作方法,其特征在于,所述触控基板还包括黑矩阵和/或对位标记,所述制作方法还包括:

采用印刷方式形成所述触控基板的黑矩阵和/或对位标记。

3.根据权利要求1所述的触控基板的制作方法,其特征在于,形成所述第一绝缘层包括:

形成整层的透明的所述第一绝缘层。

4.根据权利要求3所述的触控基板的制作方法,其特征在于,采用磁控溅射方式形成整层的SiO2或SiOxNy作为所述第一绝缘层。

5.根据权利要求1所述的触控基板的制作方法,其特征在于,还包括:

通过一次构图工艺形成所述第一触控电极和所述第一绝缘层的图形。

6.根据权利要求5所述的触控基板的制作方法,其特征在于,所述第一绝缘层采用光刻胶,所述通过一次构图工艺形成所述第一触控电极和所述第一绝缘层的图形包括:

形成第一金属层;

在所述第一金属层上涂覆光刻胶;

采用掩膜板对所述光刻胶进行曝光,显影后形成所述第一绝缘层的图形;

去除掉未被所述第一绝缘层的图形覆盖的第一金属层,形成所述第一触控电极。

7.一种触控基板,其特征在于,采用如权利要求1-6中任一项所述的制作方法制作得到。

8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求7 所述的触控基板。

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