[发明专利]低杂质含量苯并咪唑衍生物的制备方法

权利要求书

1.式I化合物的制备方法，包括将下式I化合物的初产物与有机溶剂S1溶解，析晶，干燥，得到经纯化的式I化合物；

其中，有机溶剂S1选自酯类溶剂；

其中，R₁选自H或C_1-10烷基；

R₂选自取代的C_1-10烷基；

取代基选自一个或多个R_a；

每一个R_a独立地选自无取代或被一个或多个R_b取代的下列基团：5-6元杂环基或5-6元杂芳基；

所述5-6元杂环基指饱和的一价单环或双环烃环，其包含1-3个独立选自N、O和S的杂原子；每一个Rb独立地选自C_1-10烷基；

其中所述式I化合物的初产物中还含有式I-1化合物：

其中，R₂具有式I中相同的含义；

析晶后还进行过滤步骤；

过滤后的滤饼用有机溶剂S2进一步打浆或重结晶；

有机溶剂S2为酯类溶剂；

所述有机溶剂S1和有机溶剂S2的酯类溶剂选自乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸己酯、乙酸异丙酯中的一种、两种或更多种。

2.如权利要求1所述的制备方法，其中，R₁选自H或下列基团：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基或叔丁基；

R₂中的烷基选自甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基或叔丁基；

取代基R_a选自

R_b选自C_1-6烷基。

3.如权利要求1所述的制备方法，其中，所述式I化合物选自如下结构：

4.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，式I化合物与有机溶剂S1的比例为1g/(3-20)ml。

5.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，式I化合物与有机溶剂S1的比例为1g/(5-15)ml。

6.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，所述制备方法包括在搅拌下析晶；其中析晶时间是1-6小时。

7.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，过滤后再进行干燥步骤。

8.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，过滤后的滤饼再用有机溶剂S2进一步打浆或重结晶，过滤后，还进行粉碎和/或过筛，然后再进行干燥步骤。

9.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中，所述干燥在真空度≤500Pa下进行。

10.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中所述式I化合物的初产物中，式I-1化合物含量0.15％：

         

其中，R₂具有权利要求1-3任一项所述的含义。

11.如权利要求1-3任一项所述的制备方法，其中所述经纯化的式I化合物中，式I-1化合物的摩尔百分比含量≤0.15％。

12.如权利要求11所述的制备方法，其中所述经纯化的式I化合物中，下式所示的化合物GTI-001的含量≤15.00ppm

13.如权利要求11所述的制备方法，其中所述经纯化的式I化合物中，下式所示的化合物GTI-002的含量≤15.00ppm

14.如权利要求11所述的制备方法，其中所述经纯化的式I化合物中，下式所示的化合物GTI-003的含量≤15.00ppm