[发明专利]超薄电磁屏蔽片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811304779.0 申请日: 2018-11-05
公开(公告)号: CN109328011B 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 顾正青;朱强;计建荣 申请(专利权)人: 苏州世诺新材料科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;C09J7/29
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电磁屏蔽片 制备 磁屏蔽层 电磁屏蔽 离型膜层 双面胶层 制备过程 保护膜 超薄化 贴合辊 带材 辊压 申请 镶嵌
【权利要求书】:

1.一种超薄电磁屏蔽片的制备方法,其特征在于,包括:

S1:对磁性片进行热处理、破碎、表面绝缘处理的步骤;

S2:将S1中磁性片碎片作为第二磁性片碎片非连续铺摊在双面胶一面并辊压使其镶嵌在粘结层中、并使双面胶粘结层中的粘结剂填充第二磁性片碎片之间的缝隙且与第二磁性片碎片高度一致的步骤,由此形成带有第二磁性片碎片层的双面胶;

S3:将S1中磁性片碎片作为第一磁性片碎片粘结在上述S2中第二磁性片碎片之间的粘结剂的步骤,由此形成在同一面具有第二磁性片碎片层和第一磁性片碎片层的双面胶;

S4:在S3中第一磁性片碎片另一面粘结保护膜并进行辊压、使保护膜粘结层中的粘结剂填充第一磁性片碎片之间的缝隙且与镶嵌在双面胶粘结层中的第二磁性片碎片相粘结的步骤;

所得超薄电磁屏蔽片中第一磁性片碎片层和第二磁性片碎片层为在保护膜层方向上分别非连续铺摊镶嵌在与之相邻的粘结层中,且碎片之间填充有该粘结层中的粘结剂;当第一磁性片碎片层与第二磁性片碎片层叠合时,填充于一层碎片之间的粘结剂与另一层中的碎片粘结,第一磁性片碎片层和第二磁性片碎片层共同完整覆盖整个电磁屏蔽片。

2.根据权利要求1所述的超薄电磁屏蔽片的制备方法,其特征在于:在S1步骤后,还包括选择合适碎片尺寸的步骤。

3.根据权利要求1或2所述的超薄电磁屏蔽片的制备方法,其特征在于:在S3和S4之间还含有将多个S3产物之间相互粘结、辊压的步骤,其中第一产物中第一磁性片碎片层与第二产物中双面胶的另一进行粘结、第二产物中双面胶粘结层中的粘结剂填充第一产物中第一磁性片碎片之间的缝隙且与第一产物中镶嵌在双面胶粘结层中的第二磁性片碎片相粘结。

4.一种采用如权利要求1-3之一所述制备方法获得的超薄电磁屏蔽片,其特征在于,所述超薄电磁屏蔽片包括:

至少一层磁屏蔽层(2),由第一磁性片碎片层(21)和第二磁性片碎片层(22)构成;

保护膜(1),通过其含有的第一粘结层(11)粘结于上述磁屏蔽层的一面;

双面胶层(3),具有第二粘结层(31)和第三粘结层(32),粘结于上述磁屏蔽层另一面,和多层磁屏蔽层之间;

离型膜层(4),粘附于上述双面胶的另一面;

所述第一粘结层、第二粘结层和第三粘结层均为非导电性粘结层。

5.根据权利要求4所述的超薄电磁屏蔽片,其特征在于:所述第一磁性片碎片和第二磁性片碎片为经热处理、破碎、表面绝缘处理后的磁性片碎片;所述磁性片为软磁合金、铁氧体片、磁粉/树脂形成的聚合物片中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的超薄电磁屏蔽片,其特征在于:所述软磁合金为非晶/纳米晶合金片、坡莫合金片、钼坡莫合金片中的至少一种。

7.根据权利要求4所述的超薄电磁屏蔽片,其特征在于:所述双面胶层还含有超薄基材层(300)。

8.根据权利要求4所述的超薄电磁屏蔽片,其特征在于:设磁性片厚度D,所述第一粘结层的厚度T1:0.5D≤T1≤D。

9.根据权利要求4所述的超薄电磁屏蔽片,其特征在于:所述双面胶层中,第二粘结层厚度T2:0.5D≤T2≤D,第三粘结层的厚度T3:0.5D≤T3≤D。

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