[发明专利]显示屏的校正优化方法、装置、电子设备及存储介质有效
| 申请号： | 201811305939.3 | 申请日： | 2018-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN109410839B | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 丁仁杰;田雪松;徐文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G09G3/3225 | 分类号： | G09G3/3225 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示屏 校正 优化 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种显示屏的校正优化方法，其特征在于，包括：
控制显示屏进入基准模式；
在所述基准模式下对所述显示屏进行校正以生成基准校正值；
获取所述显示屏参考模式对应的偏移校正值；所述获取所述显示屏参考模式对应的偏移校正值，包括：通过查询预设的对照表获取参考模式对应的偏移校正值，其中，所述显示屏有N个，N为大于1的正整数，所述预设的对照表通过以下步骤获得：在所述基准模式下分别对所述N个显示屏进行校正以获得所述基准模式下的N个基准样本校正值；在所述参考模式下分别对所述N个显示屏进行校正以获得所述参考模式下的N个参考样本校正值；根据所述N个基准样本校正值和所述N个参考样本校正值生成所述偏移校正值；以及
根据所述基准校正值和所述参考模式对应的偏移校正值获取参考模式对应的校正值。
2.如权利要求1所述的显示屏的校正优化方法，其特征在于，所述校正为伽马校正，所述基准模式为常规显示模式。
3.如权利要求1-2任一所述的显示屏的校正优化方法，其特征在于，所述参考模式有多个。
4.一种显示屏的校正优化装置，其特征在于，包括：
控制模块，用于控制显示屏进入基准模式；
校正模块，用于在所述基准模式下对所述显示屏进行校正以生成基准校正值；
第一获取模块，用于获取所述显示屏参考模式对应的偏移校正值；所述第一获取模块，包括：获取单元，用于通过查询预设的对照表获取参考模式对应的偏移校正值，其中，所述显示屏有N个，N为大于1的正整数，所述预设的对照表通过以下步骤获得：在所述基准模式下分别对所述N个显示屏进行校正以获得所述基准模式下的N个基准样本校正值；在所述参考模式下分别对所述N个显示屏进行校正以获得所述参考模式下的N个参考样本校正值；根据所述N个基准样本校正值和所述N个参考样本校正值生成所述偏移校正值；以及
第二获取模块，用于根据所述基准校正值和所述参考模式对应的偏移校正值获取参考模式对应的校正值。
5.如权利要求4所述的显示屏的校正优化装置，其特征在于，所述校正为伽马校正，所述基准模式为常规显示模式。
6.一种电子设备，其特征在于，包括：存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的程序，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1-3中任一所述的显示屏的校正优化方法。
7.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述程序被处理器执行时实现如权利要求1-3中任一所述的显示屏的校正优化方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811305939.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种像素电路和显示装置
- 下一篇：一种高均匀性低漏电的硅基微显示像素电路
