[发明专利]一种法拉第真空移动装置在审
申请号: | 201811309624.6 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN111128657A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 何山 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/244 | 分类号: | H01J37/244 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101111 北京市通*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 法拉第 真空 移动 装置 | ||
本发明公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括:法拉第真空腔体(1),法拉第底座(2),移动组件(3)。整个装置主要由三部分构成,如图1所示:法拉第真空腔体(1),为法拉第提供真空环境。法拉第底座(2)为整个移动装置提供支撑。移动组件(3)为法拉第提供动力,并反馈实时位置。其中直线电机为法拉第提供动力,直线导轨及滑块提供较高精度的移动及支撑,限位挡块防止滑块超过行程脱落,光栅尺及编码器实时反馈准确的位置信息,限位开关磁铁提供限位,防止直线电机超过预设行程。本发明涉及离子注入装置,隶属于半导体制造领域。
技术领域
本发明涉及一种半导体器件制造控制系统,尤其涉及离子注入机法拉第真空移动装置,该装置是低能大束流离子注入装备中的光路检测关键装置之一。
背景技术
随着半导体工艺的发展,且随着特质线宽的缩小,工艺复杂程度的提高,束流的均匀性和稳定性对于离子注入系统愈发重要,已成为器件成败与否的重要关键。控制束流的均匀性和稳定性,需要有一个束流测量的装置,实时对于束流状态进行分析与检测,确保注入工艺的质量与稳定。其中精确测量的法拉第装置非常重要,而提高测量精度的一个很重要的前提就是需要一个运动稳定,直线度高,精确定位的移动装置。
发明内容
1.本发明公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括:法拉第真空腔体(1),法拉第底座(2),限位挡块(4),直线导轨及滑块(5),光栅尺及编码器(6),直线电机(7),限位开关磁铁(8)。
2.法拉第真空移动装置分为三部分,法拉第真空腔体(1),为法拉第提供真空环境。法拉第底座(2)为整个移动装置提供支撑。移动组件(3)为法拉第提供动力,并反馈实时位置。
3.法拉第真空移动装置依靠直线电机(7)为法拉第提供动力,定子固定在底座(2),动子与法拉第支持手臂相连。
4.法拉第真空移动装置,借助直线导轨及滑块(5)提供较高精度的移动及支撑,限位挡块(4)能够放置滑块超出行程脱落。
5.拉第真空移动装置,使用光栅尺及编码器(6)实时反馈准确位置信息,限位开关磁铁(8)提供限位,能够防止直线电机超过预设行程。本发明具有如下显著优点:
1.功能明确,针对性强。
2.性能稳定,测量精度高,可达1μm。
3.回零准确,重复性好。
4.行程大,最长可达460mm。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图。
图2是本发明的移动组件示意图。
1-法拉第真空腔体,2-法拉第底座,3-移动组件,4-限位挡块,5-直线导轨及滑块,6-光栅尺及编码器,7-直线电机,8-限位开关磁铁。
具体实施方式
下面结合附图1到附图2对本发明作进一步的介绍,但不作为对本发明的限定.
本发明公开了一种法拉第真空移动装置。该装置主要包括:法拉第真空腔体(1),法拉第底座(2),限位挡块(4),直线导轨及滑块(5),光栅尺及编码器(6),直线电机(7),限位开关磁铁(8)。
具体实施步骤如下:
整个装置分为三部分,法拉第真空腔体(1),为法拉第提供真空环境。法拉第底座(2)为整个移动装置提供支撑。移动组件(3)为法拉第提供动力,并反馈实时位置。。
直线电机(7)通过转接件与法拉第支持手臂连接,直线电机定子固定在法拉第底座(2)上,动子与法拉第手臂相连。法拉第手臂相连同时也与两个滑块相连,两个滑块提供了支撑的同时,也保证了运动的直线度。
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