[发明专利]基板处理系统

说明书

一种基板处理系统包括一基板处理组和一基板持取单元。基板处理组包括基板支撑件，基板支撑件用以支撑直立的一基板。基板持取单元包括二悬臂和二基板持取件。各基板持取件分别设置于各悬臂。二基板持取件用以垂直持取基板。当基板持取单元移动至基板处理组，且二基板持取件与基板接触后，二基板持取件持取基板。

技术领域

本发明关于一种基板处理系统，特别是一种方便持取、放置或交接直立状态的基板，以及将基板转换为平放或直立状态之间，以配合进行各种工艺的基板处理系统。

背景技术

在半导体工艺中，需先对基板进行多道清洁程序，以移除基板表面的杂质；或者蚀刻基板形成图案后，也必须借由多道清洁程序以去除基板表面的光阻或金属膜。在一般的清洁程序里，先将基板浸泡于化学液，再以喷洗的方式清洗基板，最后再以旋转的方式干燥基板。然而，将基板置入浸泡、喷洗或旋转的机台时，须配合不同的机台设计而将基板直立或平放。

因此，如何提供一种方便将基板持取、放置或交接直立状态的基板，以及将基板转换为平放或直立状态之间，以配合进行各种工艺的基板处理系统，遂成为一值得研讨的课题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种方便持取、放置或交接直立状态的基板，以及将基板转换为平放或直立状态之间，以配合进行各种工艺的基板处理系统。

为达成上述的目的，本发明的一种基板处理系统包括一基板处理组和一基板持取单元。基板处理组包括基板支撑件，基板支撑件用以支撑直立的一基板。基板持取单元包括二悬臂和二基板持取件，各基板持取件分别设置于各悬臂，二基板持取件用以垂直持取基板。当基板持取单元移动至基板处理组，且二基板持取件与基板接触后，二基板持取件持取基板。基板持取单元持取基板的步骤包括：二基板持取件下降至低于第一高度；二基板持取件向基板水平移动至二基板持取件分别对准基板的两边；二基板持取件上升至接触基板的两边；二基板持取件上升并持取基板，使得基板离开基板支撑件。

附图说明

图1为本发明的第一实施例的基板处理系统的示意图。

图2为本发明的第一实施例的基板支撑件翻转于水平与直立状态之间的示意图。

图3为本发明的第一实施例的基板持取单元靠近基板支撑件的示意图。

图4为本发明的第一实施例的基板持取件的示意图。

图5为本发明的第一实施例的基板持取件下降至低于第一高度的示意图。

图6为本发明的第一实施例的基板持取件上升至接触基板的两边的示意图。

图7为本发明的第一实施例的基板持取件持取基板并上升，使得基板离开基板支撑件的示意图。

图8为本发明的第一实施例的基板位于浸泡槽内的基板支撑件上的示意图。

图9为本发明的第一实施例的基板持取件浸泡槽内的基板支撑件上的基板的示意图。

图10为本发明的第一实施例的基板持取件单片式喷洗处理槽内的基板支撑件上的基板的示意图。

图11为本发明的第二实施例的基板处理系统的示意图。

图12为本发明的第三实施例的基板处理系统的示意图。

图13为本发明的第四实施例的基板处理系统的示意图。

其中附图标记为：

基板处理系统1、1a、1b、1c

基板支撑件10、10a、10b、10c、10d、10e

容置单元11

主体12

浸泡槽20