[发明专利]图像饱和度增强的细节处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 201811333638.1 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109636739B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 王珊;饶洋;陈云娜 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T7/90
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;刘巍
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 图像 饱和度 增强 细节 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种图像饱和度增强的细节处理方法,其特征在于,包括:

步骤10、在YCbCr或CIELAB色彩空间对图像原始数据进行色彩增强处理;对于欲进行细节处理的像素i,获得其色彩增强后的饱和度Ci’;

步骤20、对于欲进行细节处理的像素i,获得对其饱和度进行非锐化掩蔽操作后的反馈值ΔCi,USM

步骤30、获得像素i经细节处理后的饱和度Ci”,Ci”=Ci’-ΔCi,USM

反馈值ΔCi,USM=μ*(ΔCi-(1/N2)∑j∈SΔCj),其中,ΔCi代表像素i经过色彩增强后的饱和度Ci’与色彩增强前的饱和度Ci间的差值,S代表像素i周围N*N大小的像素块,j代表像素块S中像素i以外的像素,ΔCj代表像素j经过色彩增强后的饱和度Cj’与色彩增强前的饱和度Cj间的差值,N为大于2的自然数,μ为滤波增益系数,用于调整适应像素i周围的锐度,0μ1。

2.如权利要求1所述的图像饱和度增强的细节处理方法,其特征在于,N等于15,μ等于0.4。

3.如权利要求1所述的图像饱和度增强的细节处理方法,其特征在于,像素的饱和度为像素在YCbCr空间中的CbCr分量或CIELAB空间中的AB分量。

4.如权利要求3所述的图像饱和度增强的细节处理方法,其特征在于,像素的饱和度的计算公式为饱和度其中C1和C2为像素在YCbCr空间中的CbCr分量或CIELAB空间中的AB分量。

5.一种图像饱和度增强的细节处理装置,其特征在于,包括:

色彩增强处理模块,用于在YCbCr或CIELAB色彩空间对图像原始数据进行色彩增强处理;对于欲进行细节处理的像素i,获得其色彩增强后的饱和度Ci’;

空间滤波模块,用于对于欲进行细节处理的像素i,获得对其饱和度进行非锐化掩蔽操作后的反馈值ΔCi,USM

细节处理模块,用于获得像素i经细节处理后的饱和度Ci”,Ci”=Ci’-ΔCi,USM

所述反馈值ΔCi,USM=μ*(ΔCi-(1/N2)∑j∈SΔCj),其中,ΔCi代表像素i经过色彩增强后的饱和度Ci’与色彩增强前的饱和度Ci间的差值,S代表像素i周围N*N大小的像素块,j代表像素块S中像素i以外的像素,ΔCj代表像素j经过色彩增强后的饱和度Cj’与色彩增强前的饱和度Cj间的差值,N为大于2的自然数,μ为滤波增益系数,用于调整适应像素i周围的锐度,0μ1。

6.如权利要求5所述的图像饱和度增强的细节处理装置,其特征在于,N等于15,μ等于0.4。

7.如权利要求5所述的图像饱和度增强的细节处理装置,其特征在于,像素的饱和度为像素在YCbCr空间中的CbCr分量或CIELAB空间中的AB分量。

8.如权利要求7所述的图像饱和度增强的细节处理装置,其特征在于,像素的饱和度的计算公式为饱和度其中C1和C2为像素在YCbCr空间中的CbCr分量或CIELAB空间中的AB分量。

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