[发明专利]一种应用于单晶炉的底部法兰在审
申请号: | 201811342454.1 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN109321969A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 涂瑾;傅林坚;韦韬;曹建伟;胡建荣;倪军夫;陈杭;甘超 | 申请(专利权)人: | 浙江晶鸿精密机械制造有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 周世骏 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单晶炉 焊接 底部法兰 下圆盘 水平调整 上端 法兰 副室 隔板 空心圆柱结构 圆柱体结构 单边通孔 辅助材料 辅助设备 环形凹槽 密封性能 腔体连通 三通连接 生产效率 水嘴接口 圆形封板 氩气管路 上端面 封板 硅棒 分设 替换 应用 生产 | ||
1.一种应用于单晶炉的底部法兰,其特征在于,包括下圆盘组件、水平调整组件与氩气管路;
所述下圆盘组件包括下圆盘、封板、水嘴接口和隔板;
所述下圆盘是圆柱体结构的圆盘,且下圆盘的上端面上设有两个环形凹槽,分别为第一凹槽与第二凹槽;其中第一凹槽与上端面为同心圆,且靠近上端面外缘,第二凹槽设于靠近下圆盘中心处;凹槽上均设有圆形封板,且封板直径与凹槽的外径相同;下圆盘侧面打有2个深孔,用于连通两个环形凹槽,上端面靠近中心处开有2个贯穿孔;所述水嘴接口有两个,均焊接在第一凹槽上的封板上,并与第一凹槽的腔体连通;所述隔板有两块,分设于第一凹槽与第二凹槽内,垂直于槽壁并位于2个深孔中间处,用于实现将下圆盘腔体分隔形成水路;
所述水平调整组件包括水平调整副室、顶板与KF10×40法兰;
所述水平调整副室是空心圆柱结构,底部焊设于下圆盘上端面,在侧部开有单边通孔,用于焊接KF10×40法兰;所述顶板是由自上而下的三个空心圆柱组成的工字型结构,焊接于水平调整副室上端面上;
所述氩气管路为通过焊接三通连接的3/8EP管与KF10×20法兰组成的管路,3/8EP管有两根,端部分别与下圆盘上端面的贯穿孔焊接。
2.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,所述第一凹槽的外沿与内沿为两个同心圆,其直径之比为:572:536,凹槽深度与下圆盘的高之比为:9∶20;第二凹槽圆心与下圆盘圆心距离90mm,外径与内径比为4:3,凹槽深度与下圆盘高度比为:9∶20;下圆盘上端面的分度圆上均布有6个通孔,的分度圆上均布有3个深度为30mm的M27螺纹孔;下圆盘侧面的深孔为深孔,上端面连接3/8EP管的贯穿孔为贯穿孔。
3.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,所述水嘴接口是外径的管体,两个水嘴接口与下圆盘上端面圆心连线呈15°,水嘴接口端部设有RC3/4锥形螺纹孔,用于直角弯头的连接。
4.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,所述水平调整副室在高度方向上6∶31处,开的单边通孔;靠近通孔侧的端口,开有3×30°坡口,另一侧端口为4×30°坡口,用于焊接固定。
5.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,所述顶板由上至下,三个圆柱外径比为55∶40∶76,在最大外径圆柱的端面设有高度1mm,直径的定位台阶档,并在台阶档下方,开有3×30°坡口,用于焊接固定。
6.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,封板的底面开有直径的燕尾槽,用于安装密封圈,保证拉晶过程中的密封性。
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