[发明专利]一种省空间可翻转式曝光框架

权利要求书

1.一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，其特征在于，两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行，所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时，所述上框能够水平滑动。

2.根据权利要求1所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述移框翻转机构包括翻转臂和翻转支撑臂，所述翻转支撑臂的端部通过翻框转轴固定有一轴承，所述翻框转轴的一端与所述翻转臂连接。

3.根据权利要求2所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转支撑臂的端部还设有一弧形缺口，所述翻转臂的一端设有翻转回位限位销，所述翻转臂翻转的过程中、所述翻转回位限位销沿所述弧形缺口滑动。

4.根据权利要求3所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转支撑臂的端部还设有自锁锲，所述翻转臂回位旋转至一定位置时，所述翻转回位限位销自动卡入自锁锲内限位。

5.根据权利要求4所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转臂的一侧面设有用于连接所述上框的滑动连接组件。

6.根据权利要求5所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述滑动连接组件包括滑槽，所述滑槽的两侧分别间隔设有多个第一凸轮辊轴，所述滑槽的底部间隔设有若干个第二凸轮辊轴。

7.根据权利要求6所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转臂的一侧边缘还设有柱塞固定座，所述柱塞固定座上安装有用于限制所述上框水平拉出距离的柱塞。

8.根据权利要求7所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述上框的两侧分别设有导轨，两条所述导轨上分别设有上框定位锲，所述导轨卡入至所述滑槽，当所述上框跟随所述翻转臂翻转至水平状态时、能够推动所述上框滑动至所述浮动机构上，所述上框从曝光室拉出至外部清洁时、所述上框定位锲会经过所述柱塞位置，所述柱塞卡入所述上框定位锲。

9.根据权利要求8所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，两个所述浮动机构均包括有浮动臂，两个所述浮动臂的对应侧均设有凹陷滑台，所述凹陷滑台的两侧壁上均间隔设有若干个第三凸轮辊轴；所述上架的导轨沿所述凹陷滑台滑动。

10.根据权利要求9所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转支撑臂与所述浮动臂的连接处设有直线导轨，所述翻转臂翻转至水平状态时，所述滑槽与所述凹陷滑台对齐；

所述上框的一端设有把手，所述自锁锲包括锲座和锲钩，锲钩通过转轴连接在所述锲座上，所述锲钩能够以转轴为中心旋转。