[发明专利]一种省空间可翻转式曝光框架

说明书

本发明公开一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个浮动机构的同一端均设有能够带动上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，移框翻转机构带动上框转动至曝光室位置时、移框翻转机构与浮动机构平行。本发明采用翻转式结构，带动上框能够实现不同角度方位的清洁，该发明设计新颖、结构简单，可有效地预防底片清洁存在的死角，同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理，既方便又实用，还不占用正常过道空间，提高了PCB产品合格率及降低返工成本。

技术领域

本发明涉及曝光机技术领域，特别涉及一种省空间可翻转式曝光框架。

背景技术

在全自动曝光机领域，因上框与下框空间有限，手伸进清洁底片时经常出现清洁不到位，而且也无法检查清洁质量，故而导致PCB经常出现批量性固定缺陷导致报废或返工，现今也有些框架可拉出清洁，但拉出时所占空间高达1000mm，若两条设备对称摆放时另一条设备不便操作，为了能同时拉出框架清洁只能增加过道空间来克服此问题，这些对于PCB产品及车间场所都是困扰。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的上述缺陷，提供一种省空间可翻转式曝光框架。

为解决现有技术的上述缺陷，本发明提供的技术方案是：一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行，所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时，所述上框能够水平滑动。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述移框翻转机构包括翻转臂和翻转支撑臂，所述翻转支撑臂的端部通过翻框转轴固定有一轴承，所述翻框转轴的一端与所述翻转臂连接。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂的端部还设有一弧形缺口，所述翻转臂的一端设有翻转回位限位销，所述翻转臂翻转的过程中、所述翻转回位限位销沿所述弧形缺口滑动。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂的端部还设有自锁锲，所述翻转臂回位旋转至一定位置时，所述翻转回位限位销自动卡入自锁锲内限位。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，翻转臂的一侧面设有用于连接所述上框的滑动连接组件。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述滑动连接组件包括滑槽，所述滑槽的两侧分别间隔设有多个第一凸轮辊轴，所述滑槽的底部间隔设有若干个第二凸轮辊轴；所述翻转臂的一侧边缘对应所述第二凸轮辊轴的位置设有缺口。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转臂的一侧边缘还设有柱塞固定座，所述柱塞固定座上安装有用于限制所述上框水平拉出距离的柱塞。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述上框的两侧分别设有导轨，两条所述导轨上分别设有上框定位锲，所述导轨卡入至所述滑槽，当所述上框跟随所述翻转臂翻转至水平状态时、能够推动所述上框滑动至所述浮动机构上，所述上框从曝光室拉出至外部清洁时、所述上框定位锲会经过所述柱塞位置，所述柱塞卡入所述上框定位锲。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，两个所述浮动机构均包括有浮动臂，两个所述浮动臂的对应侧均设有凹陷滑台，所述凹陷滑台的两侧壁上均间隔设有若干个第三凸轮辊轴；所述上框的导轨沿所述凹陷滑台滑动。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂与所述浮动臂的连接处设有直线导轨，所述翻转臂翻转至水平状态时，所述滑槽与所述凹陷滑台对齐。

作为本发明省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述上框的一端设有把手，所述自锁锲包括锲座和锲钩，锲钩通过转轴连接在所述锲座上，所述锲钩能够以转轴为中心旋转。