[发明专利]片烟的片型系数表征方法、系统、计算机存储介质及设备在审

专利信息
申请号: 201811346879.X 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN109493335A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 徐玮杰;杨凯;张军;薛庆逾 申请(专利权)人: 上海烟草集团有限责任公司;上海创和亿电子科技发展有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/90;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/62;G06T7/64
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 徐秋平
地址: 200082 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 片型 片烟 圆度 计算机存储介质 计算规则 原始图像 打叶 图像 工艺参数调整 最小外接圆 参数提供 反馈控制 机器视觉 加工参数 数据支撑 规整 工艺段 可比性 面积比 分割 出片 烟叶 个性化 衡量 生产
【权利要求书】:

1.一种片烟的片型系数表征方法,其特征在于,包括:

获取片烟的原始图像;

基于颜色强度,对所述原始图像进行分割;

基于分割后的图像,计算片烟的圆度率,以通过所述片烟的圆度率表征片烟的片型系数。

2.根据权利要求1所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,所述基于颜色强度,对所述原始图像进行分割的步骤包括:

提取原始图像中RGB色彩空间的R值、G值、B值;

根据原始图像的R值、G值、B值,计算原始图像的灰度矩阵;

通过原始图像与灰度矩阵构造图像的颜色强度矩阵;

根据针对所述颜色强度矩阵所选择的指定通道的阈值,按照指定通道对原始图像进行色彩分割,形成二值化图像;

对二值化图像中潜在的烟叶小孔进行填充,形成填充孔洞后的二值化图像。

3.根据权利要求2所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,

原始图像的灰度矩阵的计算公式为:

Gray=0.3*R+0.59*G+0.11*B;

其中,Gray表示灰度矩阵,R表示RGB色彩空间的R值,G表示RGB色彩空间的G值,B表示RGB色彩空间的B值;

颜色强度矩阵的构造公式为:

其中,CI表示颜色强度矩阵。

4.根据权利要求3所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,

所述根据针对所述颜色强度矩阵所选择的指定通道的阈值,按照指定通道对原始图像进行色彩分割,形成二值化图像的步骤包括:

将所述颜色强度矩阵中的像素值与指定通道的阈值进行比较,若所述颜色强度矩阵中的像素值小于等于指定通道的阈值,则将该像素值用1替换;若所述颜色强度矩阵中的像素值大于指定通道的阈值,则将该像素值用0替换;通过替换像素值,形成所述二值化图像。

5.根据权利要求3所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,所述对二值化图像中潜在的烟叶小孔进行填充,形成填充孔洞后的二值化图像的步骤包括:

检查二值化图像的连通;

确定需填充的像素点的位置区域;

调用预设填充函数对需填充的位置区域进行填充,以形成填充孔洞后的二值化图像。

6.根据权利要求5所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,所述基于分割后的图像,计算所述片烟的圆度率,以通过所述圆度率表征片烟的片型系数的步骤包括:

针对填充孔洞后的二值化图像,提取每个连通区域的边缘曲线,获取所述边缘曲线的边缘坐标;

查找出每个连通区域的边缘曲线的横坐标的分布范围中的横坐标最小值和横坐标最大值以及纵坐标的分布范围中的纵坐标最小值和纵坐标最大值;

运用横坐标最小值和横坐标最大值以及纵坐标的分布范围中的纵坐标最小值和纵坐标最大值形成的矩形,把二值化图像分割成若干个矩阵块;所述矩阵块的数量与连通区域的数量相同;

计算每个连通区域的面积,并提取每个连通区域的边缘,根据其边缘坐标,生成对应的最小外接圆;

计算每个连通区域的最小外接圆的面积;

根据每个连通区域的面积及其对应的最小外接圆的面积,计算每个连通区域的圆度率;

计算每个片烟的圆度率,并根据根据每个片烟的圆度率,计算该批次片烟的圆度率均值。

7.根据权利要求6所述的片烟的片型系数表征方法,其特征在于,

每个连通区域的面积与所统计的每个连通区域中二值化数据为1或0的点总个数;

每个连通区域的最小外接圆的面积等于圆周率常数乘以最小外接圆的半径的平方;其中最小外接圆的半径为预设圆内判别公式成立的最小值;所述预设圆内判别公式用于判断每个连通区域的边缘曲线是否都在圆内;

每个连通区域的圆度率等于每个连通区域的面积/其对应的最小外接圆的面积。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海烟草集团有限责任公司;上海创和亿电子科技发展有限公司,未经上海烟草集团有限责任公司;上海创和亿电子科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811346879.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top