[发明专利]光罩防护膜结构及光罩在审
| 申请号： | 201811346995.1 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109270789A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 方红;姜鹏 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光罩 环形框架 防护膜 保护膜 开口 变形量 贯穿孔 过滤膜 变形 贯穿 支撑 | ||
1.一种光罩防护膜结构，其特征在于，包括：
保护膜；
环形框架，所述环形框架用于支撑和固定所述保护膜，所述环形框架中具有贯穿环形框架的开口，所述开口中填充满若干具有贯穿孔的过滤膜。
2.如权利要求1所述的光罩防护膜结构，其特征在于，所述开口的形状为立方体，每个过滤膜的形状为具有贯穿孔的立方体。
3.如权利要求2所述的光罩防护膜结构，其特征在于，若干过滤膜相互堆叠填充满所述开口。
4.如权利要求3所述的光罩防护膜结构，其特征在于，所述开口的宽度5～7毫米，开口的高度为5～7毫米。
5.如权利要求4所述的光罩防护膜结构，其特征在于，每个过滤膜的宽度250～350纳米，高度为250～350纳米，贯穿孔两边的过滤膜的膜壁的厚度为0.320～0.340纳米。
6.如权利要求1所述的光罩防护膜结构，其特征在于，所述过滤膜材料的硬度与环形框架材料的硬度之比为0.9/1～1.1/1。
7.如权利要求6所述的光罩防护膜结构，其特征在于，所述环形框架的材料为铝或铝合金，所述过滤膜的材料为石墨。
8.一种光罩，其特征在于，包括：
透明基板，透明基板的包括第一表面和相对的第二表面，所述透明基板的第一表面上具有若干不透光的掩膜图形；
位于所述透明基板第一表面的如权利要求1～7任一项所述的光罩防护膜结构。
9.如权利要求8所述的光罩，其特征在于，所述透明基板与光罩防护膜结构之间具有粘附层。
10.如权利要求8所述的光罩，其特征在于，所述掩膜图形的材料为铬、硅化钼或硅化钽。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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