[发明专利]用于保持电路板等的保持设备

权利要求书

1.一种用于保持基底的保持设备(1)，所述保持设备包括：

吸附面(3)，其中所述吸附面(3)具有多个吸附喷嘴(5)并且其中所述吸附喷嘴(5)能够借助于负压提供装置加载有相对于环境压力的负压，以提供用于一个或多个基底的保持力，

其特征在于，

所述负压提供装置提供负压，使得由所有吸附喷嘴(5)的累积压降和所有吸附喷嘴(5)以及输入管路(6a，6b)的累积压降构成的比例大于0.25％，其中所述输入管路是所述吸附喷嘴直至所述负压提供装置的输入管路。

2.根据权利要求1所述的保持设备，其特征在于，所述吸附喷嘴(5)中的至少一个具有吸附口(4)，使得所述吸附口(4)的横截面积大于所述吸附喷嘴(5)的横截面积。

3.根据权利要求1所述的保持设备，其特征在于，所述吸附喷嘴(5)的吸附口(4)的横截面积(100)与所述吸附喷嘴(5)的横截面积(101)的比例为0.01和10000之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的保持设备，其特征在于，所述负压提供装置包括用于将吸附流分配到所述吸附喷嘴(5)上的分配装置(6)。

5.根据权利要求4所述的保持设备，其特征在于，借助于所述分配装置(6)能够限定并且能够分开地控制所述保持设备(1)的吸附板(2)的多个吸附区域(7a，7b)。

6.根据权利要求5所述的保持设备，其特征在于，所述分配装置(6)具有一个或多个输入管路(6a，6b)，所述输入管路用于供给所述吸附面(3)的或者一个或多个吸附区域(7a，7b)的吸附喷嘴(5)，其中对于所述吸附面(3)或对于每个吸附区域(7a，7b)而言，由相应的输入管路(6a，6b)的累积横截面积和在所述吸附面(3)中或在所述吸附区域(7a，7b)中的吸附喷嘴(5)的累积横截面积构成的比例至少为0.3。

7.根据权利要求5所述的保持设备，其特征在于，所述分配装置(6)具有切换阀(8)，以控制不同的吸附区域(7a，7b)。

8.根据权利要求7所述的保持设备，其特征在于，所述负压提供装置具有吸附脉冲装置(10)，以提供第一吸附脉冲。

9.根据权利要求8所述的保持设备，其特征在于，所述吸附脉冲装置(10)具有负压腔(11)。

10.根据权利要求1所述的保持设备，其特征在于，设置有负压测量装置(12)和/或用于测量穿过所述输入管路(6a，6b)的流量的流量测量装置，以测量和调节吸附流的负压。

11.根据权利要求10的保持设备，其特征在于，借助于所述负压测量装置(12)和/或借助于所述流量测量装置能够测量并且能够调节不同的吸附区域(7a，7b)的负压。

12.根据权利要求1所述的保持设备，其特征在于，设置有识别装置(13)以识别所述保持设备(1)的吸附板(2)的空置区域，所述空置区域是无基底的。

13.根据权利要求12所述的保持设备，其特征在于，所述识别装置(13)包括光学的和/或声学的识别机构。

14.根据权利要求4所述的保持设备，其特征在于，设置有识别装置(13)以识别所述保持设备(1)的吸附板(2)的空置区域，所述空置区域是无基底的，其中所述识别装置(13)与所述分配装置(6)连接，使得在识别空置区域时能够借助于所述分配装置(6)关断这些空置区域。

15.根据权利要求1所述的保持设备，其特征在于，所述吸附喷嘴和/或其吸附口规律地分布设置。