[发明专利]一种大束流离子注入机剂量补打方法在审
申请号: | 201811357791.8 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN111192810A | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 方加晔;李士会;肖志强 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101111 北京市通*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 流离 注入 剂量 方法 | ||
本发明公开了一种大束流离子注入机打火剂量补打方法,包括:PMAC板卡(1)ACC‑24E2A PMAC轴卡(2)打火检测板(3)直线运动控制组件(4)工控机(5)PMAC MACRO机箱(6)光栅尺(7)直线电机(8)驱动器(9)电源(10)主要特征为PMAC板卡(1)在工控机(6)中负责整个上控制器的数据采集和指令发送,工控机(6)安装WINDOWS操作系统。ACC‑24E2A PMAC轴卡(2)在PMAC MACRO机箱(6)中控制电机的运动,打火信号捕捉处理和电源输出打开。直线运动控制组件(4)包括直线电机(8)光栅尺(7)驱动器(9)控制直线模组的运动,打火检测板(3)监测电源(10)的打火状态和记录电源的运动历史并发送电源打开和关闭的动作。直线模组有两个运动机械限位:上限(12)和下限(11)。
技术领域
本发明应用于大束流离子注入机的剂量注入发生打火(glitch)的问题上,能够最大限度的保持离子注入剂量的精确程度和提高大束流离子注入机注入异常处理能力。
背景技术
大束流离子注入机是微电子制造中的重要装备,其特点是束流大能量相对较小。在大束流离子注入机的长期使用时,由于离子的束流较大,极易造成注入机内部电荷积累和污染,在这种情况下打火将无法避免,所以必须记录打火发生的位置并采取关断电源的方式停止注入,在束流恢复正常时将反方向注入,运动到上一次打火发生的位置时,同样关闭电源,这样就实现了打火时的剂量补打。
发明内容
本发明公开了一种大束流离子注入机打火剂量补打方法,主要用于离子注入机的注入异常处理,能够最大限度的保持离子注入剂量的精确程度和提高大束流离子注入机注入异常处理能力。
本发明通过以下硬件实现:PMAC板卡(1)、ACC-24E2A PMAC轴卡(2)、打火检测板(3)、直线运动控制组件(4)、工控机(5)、PMAC MACRO机箱 (6)、光栅尺(7)、直线电机(8)、驱动器(9)、电源(10)。
本发明硬件特征为PMAC板卡(1)插在工控机(6)中负责整个上控制器的数据采集和指令发送,工控机(6)安装WINDOWS操作系统。ACC-24E2A PMAC轴卡(2)插在PMAC MACRO机箱(6)中控制电机的运动,打火信号捕捉处理和电源输出打开。直线运动控制组件(4)包括直线电机(8)、光栅尺(7),驱动器(9)控制直线模组的运动,打火检测板(3)监测电源(10)的打火状态和记录电源的运动历史并发送电源打开和关闭的动作。直线模组有两个运动机械限位:运动上限(12)和运动下限(11)。
本发明的流程特征为打火发生时位置的捕捉,和反方向运动时运动到打火位置的同步比较输出的使用,即在打火发生时记录打火发生的位置关闭电源,恢复补打注入剂量时,直线模组运动到上一次打火发生的位置时同步输出高电平,关闭电源。
本发明具有如下显著优点:
1.位置捕捉精度高。
2.剂量补打精度高。
3.硬件架构简单。
具体实施方式
下面结合附图1、附图2、附图3和附图4对本发明作进一步的介绍,但不作为对本发明的限定。
1、单次注入开始,假定初始的运动方向为运动下限(11)到运动上限(12),打火检测板(3)实时检测电源(10)的状态,发生打火时打火检测板(3)将同时发出相同的信号至电源(10)与ACC-24E2A PMAC轴卡(2)。打火信号发送至电源(10)用于瞬间关闭电源(10),信号发送至ACC-24E2A PMAC轴卡 (2)用于打火发生时,直线模组(4)运动瞬时位置的捕捉,并记录到PMAC 板卡(1)中,同时直线模板继续按照原来的运动方向到运动上限(12),这里如图3所示,晶元已注入区域在上,未注入区域在下。
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