[发明专利]压印模板及其制备方法和压印方法有效

专利信息
申请号: 201811366008.4 申请日: 2018-11-16
公开(公告)号: CN109445247B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 谭伟;郭康;谷新 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 压印 模板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种压印模板,其特征在于,包括:衬底基板、压印用图形层和平坦化层;

所述平坦化层位于所述压印用图形层背向衬底基板一侧的表面,所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧表面为平面;

所述平坦化层和所述压印用图形层被配置为:在特定除膜工艺下,所述平坦化层被去除,而所述压印用图形层保留;

所述平坦化层的材料包括:水溶性材料或可降解材料;

所述特定除膜工艺为使用水溶剂将包括水溶性材料的所述平坦化层溶解或通过降解工艺将包括可降解材料的所述平坦化层降解。

2.根据权利要求1所述的压印模板,其特征在于,所述水溶性材料包括:聚乙烯醇树脂和聚己内酯树脂中的至少一种;

所述可降解材料包括:可降解型压印胶。

3.根据权利要求1所述的压印模板,其特征在于,还包括:缓冲层;

所述缓冲层位于所述衬底基板和所述压印用图形层之间。

4.一种压印模板的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成压印用图形层;

在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层,所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧表面为平面;

其中,所述平坦化层和所述压印用图形层被配置为:在特定除膜工艺下,所述平坦化层被去除,而所述压印用图形层保留;

所述平坦化层的材料包括:水溶性材料或可降解材料;

所述特定除膜工艺为使用水溶剂将包括水溶性材料的所述平坦化层溶解或通过降解工艺将包括可降解材料的所述平坦化层降解。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层的步骤包括:

通过涂布工艺在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧表面形成平坦化材料膜;

利用平整模板对所述平坦化材料膜背向所述衬底基板的一侧进行平整化;

对所述平坦化材料膜进行固化处理,以形成所述平坦化层;

将所述平整模板与所述平坦化层分离。

6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层的步骤包括:

通过涂布工艺在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧表面形成平坦化材料膜;

将所述平坦化材料膜静置预定时长后,对所述平坦化材料膜进行固化处理。

7.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成压印用图形层的步骤包括:

通过涂布工艺在衬底基板的一侧表面形成模板胶;

利用母模板对所述模板胶背向所述衬底基板的一侧进行图案化;

对所述模板胶进行固化处理,以形成所述压印用图形层;

将所述母模板与所述压印用图形层分离。

8.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成压印用图形层的步骤之前,还包括:

在衬底基板上形成缓冲层。

9.一种压印方法,其特征在于,所述压印方法基于权利要求1-3中任一所述的压印模板,所述压印方法包括:

利用所述压印模板内所述平坦化层对压印胶进行压印,以对所述压印胶的表面进行平整化;

通过特定除膜工艺去除所述平坦化层,所述压印用图形层露出;

利用所述压印模板内所述压印用图形层对所述压印胶进行压印,以对所述压印胶进行图案化。

10.根据权利要求9所述的压印方法,其特征在于,在所述通过特定除膜工艺去除所述平坦化层的步骤之后,还包括:

对所述压印模板进行干燥处理。

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