[发明专利]压印模板和压印方法有效
申请号: | 201811366420.6 | 申请日: | 2018-11-16 |
公开(公告)号: | CN109240040B | 公开(公告)日: | 2021-10-19 |
发明(设计)人: | 郭康 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 压印 模板 方法 | ||
本公开提供了一种压印模板,包括:衬底基板、压印用图形层和可形变层;其中,所述可形变层设置于所述压印用图形层背向衬底基板一侧的表面,且所述可形变层背向所述衬底基板一侧表面形状与所述压印用图形层背向所述衬底基板一侧表面形状相同;所述可形变层配置为在外部刺激下其厚度可变。本公开还提供了一种压印方法。本公开的技术方案可避免脱模过程中发生压印胶脱落、压印出的图形扭曲变形的问题,提升纳米压印工艺的保真度。
技术领域
本公开涉及纳米压印技术领域,特别涉及压印模板和压印方法。
背景技术
脱模是纳米压印技术的核心工艺之一,将固化后的压印胶结构与压印模板顺利分离,且保证压印胶结构无损坏,是纳米压印技术的最基本要求。在实际压印过程中,由于压印模板的复杂性等问题,导致脱模时容易发生压印胶脱落、压印出的图形扭曲变形,纳米压印工艺的保真度差。
发明内容
本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种压印模板和压印方法。
第一方面,本公开实施例提供了一种压印模板,包括:衬底基板、压印用图形层和可形变层;
其中,所述可形变层设置于所述压印用图形层背向衬底基板一侧的表面,且所述可形变层背向所述衬底基板一侧表面形状与所述压印用图形层背向所述衬底基板一侧表面形状相同;
所述可形变层配置为在外部刺激下其厚度可变。
在一些实施例中,所述可形变层包括:第一电极层、第二电极层和位于两者之间的中间层;
所述第一电极层和所述第二电极层用于在两者被施加有不同电压时形成电场,在所述电场的作用下所述可形变层的厚度增大。
在一些实施例中,所述中间层包括:电解质层,所述电解质层用于在所述电场作用下其内部的阴离子和阳离子分别向两个电极层运动;
所述第一电极层和/或所述第二电极层为离子嵌入层,所述离子嵌入层可供离子嵌入以使得自身厚度增大。
在一些实施例中,所述离子嵌入层包括:至少两层石墨烯。
在一些实施例中,所述电解质层包括:离子液体。
在一些实施例中,所述中间层包括:电致形变层;
所述电致形变层用于在所述电场作用下沿厚度方向发生膨胀形变。
在一些实施例中,所述可形变层背向所述衬底基板一侧表面轮廓,与所述压印用图形层背向所述衬底基板一侧表面轮廓的一个外扩轮廓,两者一致。
在一些实施例中,所述衬底基板与所述压印用图形层一体成型。
在一些实施例中,还包括:封装层;
所述封装层位于所述可形变层背向所述衬底基板的一侧,且所述封装层背向所述衬底基板一侧表面形状与所述压印用图形层背向所述衬底基板一侧表面形状相同。
在一些实施例中,所述封装层背向所述衬底基板一侧表面轮廓,与所述压印用图形层背向所述衬底基板一侧表面轮廓的一个外扩轮廓,两者一致。
第二方面,本公开实施例提供了一种压印方法,所述压印方法基于上述压印模板,所述压印方法包括:
向可形变层施加外部刺激,以使得可形变层的厚度增大;
使用压印模板对待处理基板上的压印胶进行压印,以在压印胶上形成图形;
对所述压印胶进行固化处理;
撤去外部刺激,所述可形变层的厚度恢复初始状态,所述压印模板与所述压印胶之间初步分离;
进行脱模处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811366420.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。