[发明专利]一种微盲孔电镀前处理方法在审

专利信息
申请号: 201811382493.4 申请日: 2018-11-20
公开(公告)号: CN109518240A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 胥海兵;杨仕德;史继红;吕剑;朱远方;刘扬;王旭生;李星明;周立再 申请(专利权)人: 深圳市新宇腾跃电子有限公司
主分类号: C25D5/34 分类号: C25D5/34;C23F1/18
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 黑孔 微蚀 电镀前处理 微盲孔 等离子处理 柔性电路板 产品良率 后续工序 激光钻孔 生产效率 粗糙度 中碳粉 孔壁 碳粉 碳膜 钻孔 残留 制作
【权利要求书】:

1.一种微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,包括步骤:

将激光钻孔的产品进行黑孔处理以在钻孔的孔壁形成碳膜,黑孔处理后的产品经微蚀处理以除去孔内碳粉。

2.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,还包括黑孔步骤和微蚀步骤之间的预微蚀处理,预微蚀时NPS浓度为80g/L-120g/L、H2SO4含量为3%-5%、Cu2+≤25g/L。

3.根据权利要求2所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,预微蚀时的预微蚀量控制在0.25-0.5μm。

4.根据权利要求2所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,黑孔处理步骤后经整孔剂对平衡钻孔内电荷后进行预微蚀处理步骤。

5.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,所述黑孔处理步骤中控制固形物含量为2.0%-5.0%,pH为9.8-10.6。

6.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,进行黑孔处理步骤前用等离子清洗的方式去除钻孔内残渣和粗化PI,等离子除环氧胶的速率为0.5μm/min,等离子除聚酰亚胺的速率为0.1μm/min。

7.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,对产品微蚀至钻孔的孔底与铜表面外观一致,对微蚀处理后的产品采用酸性除油剂超声脱脂、抗氧化剂氧化保护钻孔内壁处理。

8.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,进行微蚀处理前先进行除油处理,除油步骤中PC-453的浓度为30-70mL/L,温度控制在40-50℃,水流量控制在1.0-3.0L/min。

9.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,经所述微蚀处理后的整体微蚀量控制在0.8μm。

10.根据权利要求1所述的微盲孔电镀前处理方法,其特征在于,所述微蚀处理步骤中Na2S2O4的浓度为60g/L-80g/L、H2SO4浓度为20mL/L-40mL/L,温度控制在20℃-50℃。

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