[发明专利]颗粒检测器

权利要求书

1.一种处理设备，包括：

处理腔室；

流体供应设备，包括供应系统、递送管道、抽样管道以及颗粒检测器，所述供应系统供应流体，所述递送管道连接于所述供应系统与所述处理腔室之间，所述抽样管道连接到所述递送管道，所述颗粒检测器安装于所述抽样管道中用于检测所述流体中的纳米颗粒，所述颗粒检测器包括：

衬底，包含多个纳米孔，其中所述多个纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个纳米孔；

至少一对感测电极，设置于所述衬底上，且所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔中的至少一个设置，

其中所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个感测纳米孔设置，且所述至少一对感测电极未邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个虚设纳米孔设置；以及

控制电路，电性连接到所述流体供应设备。

2.根据权利要求1所述的处理设备，其中所述多个纳米孔包括至少一个感测纳米孔以及至少一个虚设纳米孔，且所述至少一对感测电极邻接于所述至少一个感测纳米孔设置。

3.根据权利要求2所述的处理设备，其中所述颗粒检测器是能够从所述抽样管道拆卸的可更换组件。

4.根据权利要求2所述的处理设备，其中所述至少一个感测纳米孔以及所述至少一个虚设纳米孔在孔径上不同。

5.根据权利要求2所述的处理设备，其中所述至少一个感测纳米孔的所述孔径在5纳米到200纳米之间，且所述至少一个虚设纳米孔的所述孔径在5纳米到200纳米之间。

6.根据权利要求1所述的处理设备，其中所述至少一对感测电极设置于所述衬底的一侧上，且一对弧形电极邻接于所述多个纳米孔设置。

7.根据权利要求1所述的处理设备，其中所述至少一对感测电极设置于所述衬底的两个相对侧上，且一对环形电极邻接于所述多个纳米孔设置。

8.一种处理设备，包括：

处理腔室；

流体供应设备，包括供应系统、递送管道、抽样管道以及颗粒检测器，所述供应系统供应流体，所述递送管道连接于所述供应系统与所述处理腔室之间，所述抽样管道连接到所述递送管道，所述颗粒检测器安装于所述抽样管道中用于检测所述流体中的纳米颗粒，所述颗粒检测器包括：

衬底，包含多个感测纳米孔以及多个虚设纳米孔，其中所述多个感测纳米孔的孔径以及所述多个虚设纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔；以及

多个感测电极对，设置于所述衬底上，各感测电极对分别邻接于所述多个感测纳米孔中的一个设置；以及

控制电路，电性连接到所述流体供应设备。

9.根据权利要求8所述的处理设备，其中所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔在孔径上大体上相同。

10.根据权利要求8所述的处理设备，其中所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔在孔径上不同。

11.根据权利要求8所述的处理设备，其中所述感测纳米孔的所述孔径在5纳米到200纳米之间，且所述虚设纳米孔的所述孔径在5纳米到200纳米之间。

12.根据权利要求8所述的处理设备，其中所述多个感测电极对设置于所述衬底的一侧上，且一对弧形电极邻接于所述多个感测纳米孔设置。

13.根据权利要求8所述的处理设备，其中所述多个感测电极对设置于所述衬底的两个相对侧上，且一对环形电极邻接于所述多个感测纳米孔设置。