[发明专利]颗粒检测器

说明书

本公开提供一种用于检测流体中所含的纳米颗粒的颗粒检测器。颗粒检测器包含衬底和设置于衬底上的至少一对感测电极。衬底包含纳米孔，其中纳米孔的孔径大于纳米颗粒的粒径，以允许流体中所含的纳米颗粒穿过纳米孔。至少一对感测电极邻接于纳米孔中的至少一个设置。

技术领域

本发明实施例涉及一种颗粒检测器。

背景技术

当今，超纯水(ultra-pure water；UPW)广泛用于晶片的制造工艺和掩模版(reticles)(光掩模(photo-masks))的清洁工艺中。对于未来高阶半导体工艺，包含于超纯水中的纳米颗粒可能染污晶片或掩模版(光掩模)且致使良品率降低。当前，没有用于检测超纯水中的纳米颗粒的实时监测技术。

发明内容

根据本发明的实施例，一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括衬底以及至少一对感测电极。衬底包含多个纳米孔，其中所述多个纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个纳米孔。至少一对感测电极设置于所述衬底上，且所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔中的至少一个设置，其中所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个感测纳米孔设置，且所述至少一对感测电极未邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个虚设纳米孔设置。

根据本发明的实施例，一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括衬底以及多个感测电极对。衬底包含多个感测纳米孔以及多个虚设纳米孔，其中所述多个感测纳米孔的孔径以及所述多个虚设纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔。多个感测电极对设置于所述衬底上，各感测电极对分别邻接于所述多个感测纳米孔中的一个设置。

根据本发明的实施例，一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括第一衬底、至少一对第一感测电极、第二衬底以及至少一对第二感测电极。第一衬底包括多个第一纳米孔，其中所述多个第一纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个第一纳米孔。至少一对第一感测电极设置于所述第一衬底上，且所述至少一对第一感测电极邻接于所述多个第一纳米孔中的至少一个设置。第二衬底包括多个第二纳米孔，所述第二衬底与所述第一衬底间隔开，其中所述多个第二纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的所述粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个第二纳米孔。至少一对第二感测电极设置于所述第二衬底上，且所述至少一对第二感测电极邻接于所述多个第二纳米孔中的至少一个设置。

附图说明

结合附图阅读以下具体描述会最好地理解本公开的方面。应注意，根据业界中的标准惯例，各个特征未按比例绘制。实际上，为了论述清楚起见，可以任意增大或减小各种特征的尺寸。

图1示意性地示出根据本公开的一些实施例的处理设备。

图2是示意性地示出根据本公开的一些实施例的颗粒检测器的截面视图。

图3是根据本公开的一些实施例的颗粒检测器的平面视图。

图4到图8示意性地示出由根据本公开的一些实施例的颗粒检测器产生的各种检测信号。

图9和图10是分别地示出根据本公开的各种实施例的具有各种电极设计的颗粒检测器的示意图。

图11是示意性地示出根据本公开的一些替代实施例的颗粒检测器的截面视图。

图12示意性地示出由根据本公开的一些替代实施例的颗粒检测器产生的检测信号。

图13是示意性地示出根据本公开的又一些替代实施例的颗粒检测器的截面视图。

图14和图15是示意性地示出根据本公开的各种实施例的颗粒检测器的截面视图。

图16和图17是根据本公开的一些替代实施例的颗粒检测器的平面视图和截面视图。