[发明专利]一种基于多孔材料为模板制备分子印记聚合物的方法在审
申请号: | 201811388147.7 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN109593159A | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 章圣苗;张茂林;王彦华;朱芸;朱文潇;周策;张晓宇;王梦洁;刘晓;朱汉颍 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
主分类号: | C08F226/06 | 分类号: | C08F226/06;C08F222/14;C08F212/08;C08F212/36;C08J9/28;B01J20/26;B01J20/30 |
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地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔材料 制备 断裂链转移聚合 可逆加成 模板制备 分子印迹聚合物 分子印记聚合物 吸收率 二乙烯基苯 高内相乳液 后处理 功能单体 环境治理 模板分子 药物提取 最终产物 苯乙烯 成乳液 交联剂 水做 测试 应用 | ||
1.一种以可逆加成-断裂链转移所得多孔材料为模板制备分子印记聚合物的制备方法,其特征在于适用广泛,后处理简单,单位表面积上的识别位点远多于本体聚合的分子印迹聚合物,主要包括如下步骤:
将少量无机盐溶解在蒸馏水中作为水相,将乳化剂、引发剂、可逆加成-断裂链转移试剂溶于有机试剂中作为油相;分别进行除氧操作,控制不同的水油比例制备高内相乳液;在磁力搅拌条件下,形成稳定的乳液,在一定温度下反应24小时,用淋洗溶剂进行淋洗去除各种未反应的物质和乳化剂;将所制得的多孔材料切成小块,与制备分子印记聚合物所需要的材料放置在一个烧瓶中,进行除氧操作,在65摄氏度反应24 小时再用特定淋洗溶剂去除印迹分子;根据印迹分子的不同采取不同溶质的溶剂进行吸收测试,用紫外分光光度计测试其性能;
所说的少量无机盐为氯化钠,浓度为0.02 摩尔每升;
所说的有机溶剂是苯乙烯和二乙烯基苯的混合物;
所说的乳化剂、引发剂、可逆加成-断裂链转移试剂分别指司班80、偶氮二异丁氰、2-氰丙基-2-基苯并二硫;
所说的淋洗溶剂是指甲醇/乙酸(9:1,甲醇体积/乙酸体积)。
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