[发明专利]三维半导体存储器件在审
申请号: | 201811389186.9 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN109817626A | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 甘喜星;李太熙;金敬勋 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11575;H01L27/11582 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张波;翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 垂直结构 单元接触 连接区域 插塞 衬底 三维半导体存储器 单元阵列区域 堆叠 虚设 穿透电极 电极结构 方向延伸 阶梯结构 垂直地 顶表面 非圆形 俯视图 穿透 | ||
1.一种三维半导体存储器件,包括:
衬底,包括单元阵列区域和连接区域;
电极结构,提供在所述衬底上以沿第一方向延伸,并且包括垂直地堆叠在所述衬底上的电极,所述电极的每个包括多个垫部分之中的相应垫部分,所述多个垫部分堆叠在所述连接区域上以形成阶梯结构;
多个单元垂直结构,提供在所述单元阵列区域上,并且构造为穿透所述电极结构;
多个虚设垂直结构,提供在所述连接区域上,并且构造为穿透所述电极的每个的所述相应垫部分;以及
多个单元接触插塞,所述多个单元接触插塞的每个联接到所述多个垫部分之中的对应一个,
其中所述多个单元接触插塞的每个的顶表面具有第一长度和小于所述第一长度的第一宽度,以及
当在俯视图中观察时,所述多个虚设垂直结构的相应组被布置为围绕所述多个单元接触插塞中的对应一个。
2.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个单元接触插塞的每个的所述顶表面具有与所述第一方向和不同于所述第一方向的第二方向中的一个平行的长轴。
3.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构中的相邻虚设垂直结构之间的最小距离小于所述多个单元接触插塞的每个的所述顶表面的所述第一宽度。
4.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个单元接触插塞的每个的所述顶表面的所述第一长度小于所述多个虚设垂直结构中围绕对应的一个单元接触插塞的相应组的虚设垂直结构之间的对角线距离。
5.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个在其顶部水平处具有上部宽度,在其底部水平处具有下部宽度,并且在其顶部水平与底部水平之间的弯曲区域处具有居间宽度,以及
所述下部宽度小于所述上部宽度,并且所述居间宽度大于所述上部宽度。
6.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个具有比所述多个单元垂直结构的每个的宽度大的宽度。
7.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个具有椭圆形顶表面。
8.根据权利要求7所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个的所述顶表面具有相对于所述第一方向和垂直于第一方向的第二方向倾斜的长轴。
9.根据权利要求7所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个的所述顶表面具有取向在与所述多个虚设垂直结构中的其它虚设垂直结构的所述顶表面的取向的方向不同的方向上的长轴。
10.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个虚设垂直结构的每个与所述电极的侧表面间隔开。
11.根据权利要求1所述的三维半导体存储器件,其中所述多个单元垂直结构的每个和所述多个虚设垂直结构的每个包括沿垂直于所述衬底的顶表面的方向延伸的相应半导体图案、以及提供为围绕所述相应半导体图案的侧表面的相应数据存储图案。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的