[发明专利]IQC设备及金属掩膜片的展平方法

说明书

本发明提供一种IQC设备及金属掩膜片的展平方法。该IQC设备包括载台以及设于所述载台下方的展平单元；所述载台用于承载金属掩膜片；该金属掩膜片在载台上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；所述展平单元用于通过磁力将金属掩膜片卷曲的部分向靠近载台的方向吸附，以展平金属掩膜片，达到自然展平金属掩膜片的目的，且适用于卷曲程度不同的多个金属掩膜片，后续可以精确量测金属掩膜片入料的尺寸精度，提高入料检测品质管理准确度，还可以将相同尺寸精度的金属掩膜片统一张网，实现分类张网，可以提升金属掩膜片张网后的像素位置精度至少1um，从而降低OLED产品的子像素间距，提升产品竞争力。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种IQC设备及金属掩膜片的展平方法。

背景技术

有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Display，OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。

OLED器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED器件通常采用氧化铟锡(ITO)电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。

PDL Gap(子像素间距)是OLED产品竞争力的一项重要指标，目前EL段(发光层制作阶段)中PDL Gap的重要影响因子主要是热膨胀、Mask PPA(掩膜板像素位置精度)及Shadow(阴影)。而Mask PPA的提升是目前第六代(G6H世代)的一个瓶颈。而影响Mask PPA的因素较多，主要是随着产品的世代增大，FMM Sheet(精密金属掩膜片)的制作精度很难达到理想需求，而实际与理论模型的偏差势必带来精度管控的不确定性，不确定性因素越多，Mask PPA提升的瓶颈越难攻克。FMM IQC(精密金属掩膜板进料质量控制)设备是FMM入料的检测设备，能够反映入料FMM的品质状况，例如TP(距离尺寸)、CD(关键尺寸)、直线性、卷曲度、Defect(缺陷)、Tension force(拉伸力)、Wrinkle(皱纹)的测量。目前存在的问题是入料FMM Sheet无法平坦的放置在载台(Stage)上进行测量，入料FMM Sheet在载台上会向水平方向或竖直方向卷曲，因此FMM IQC设备对入料FMM Sheet测量出来的尺寸精度会小于入料FMM Sheet张网后的实际的尺寸精度。随着FMM Sheet的尺寸增大，其厚度也会降低，导致卷曲程度越来越严重，FMM IQC设备测量出来的尺寸精度与FMM Sheet实际的尺寸精度误差越来越大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种IQC设备，可以达到自然展平金属掩膜片的目的，且适用于卷曲程度不同的多个金属掩膜片。

本发明的目的还在于提供一种金属掩膜片的展平方法，可以达到自然展平金属掩膜片的目的，且适用于卷曲程度不同的多个金属掩膜片。

为实现上述目的，本发明提供了一种IQC设备，包括：载台以及设于所述载台下方的展平单元；

所述载台用于承载金属掩膜片；该金属掩膜片在载台上沿水平方向或沿竖直方向卷曲；

所述展平单元用于通过磁力将金属掩膜片卷曲的部分向靠近载台的方向吸附，以展平金属掩膜片。